中微公司专题

1、18090002 研究员 关东奇来关东奇来 执业证书编号:S0570519040003 研究员 02128972081 黄波黄波 执业证书编号:S0570519090003 研究员 075582493570 时彧时彧 02128972071。

2、 西南证券研究发展中心西南证券研究发展中心 分析师:倪正洋 执业证号:S1250520030001 电话:02158352138 邮箱: 相对指数表现相对指数表现 数据来源:Wind 基础数据基础数据 总股本亿股 5.35 流通 A 股亿股。

3、 52 91 129 167 May19 Jun19 Jul19 Aug19 Sep19 Oct19 Nov19 Dec19 Jan20 Feb20 Mar20 Apr20 中微公司上证综指 今年今年 至今至今 1 个月个月 3 个月个月 。

4、流通股本亿股 0.51 近 3 个月换手率 544.32 股价走势图股价走势图 数据来源:贝格数据 大国重器蓄势待发,国产替代正当逢时大国重器蓄势待发,国产替代正当逢时 公司首次覆盖报告公司首次覆盖报告 段小虎分析师段小虎分析师 李子卓分析。

5、120519020001 20202020年年8 8月月3 3日日 请仔细请仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明阅读在本报告尾部的重要法律声明 国内半导刻蚀巨头,迈内生国内半导刻蚀巨头,迈内生3中国台湾转移 至中国大陆:中国半导体企业机会来临。

6、 和5nm 的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用,其7nm5nm 刻蚀技术为国内唯一.公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上已大规模投入生产.公司已成为世界排名前列国内占领先地位的LED 氮化镓基MOCVD 设备制造商.nbsp。

7、18 年中国MOCVD 设备保有量从 1017 台增长至1938 台,CAGR 达13.8.根据LED inside 统计,中国已成全球 MOCVD 设备最大的需求市场,MOCVD 设备保有量占全球比例已超 40.氮化镓基MOCVD 设备占。

8、17 年 4 月,Veeco 在纽约东区的联邦法院对中微公司 MOCVD 设备的晶圆承载器 即石墨盘 供应商 SGL 展开了专利侵权诉讼, Veeco 认为,在SGL 为中微公司设计的石墨盘产品中侵犯了其专利, 要求禁止 SGL 向中微公司。

9、 亿元,同比变动约34.4776.85,占专用设备收入的 27.8527.65,其中,2020 年下滑为蓝光热退潮使得下游扩产速度放缓.收入结构中,刻蚀设备收入增长显著且为主要的业务来源.等离子体刻蚀技术国际领先,MOCVD 设备市场有广阔。

10、备扩产升级 包括 Primo ADRIEPrimo SSC HDRIE 和Primo nanova 等;高端 MOCVD 设备扩产升级包括高产能蓝绿光 LED MOCVD高温 MOCVD硅基氮化镓 GaN功率应用 MOCVD基于 LED显示。

11、存储华虹 无锡 华力集成的招投标数据为例, 三家晶圆厂的刻蚀环节上国产化率 以 机台数量计算平均达到 2030,国产化进程加速.中微的刻蚀设备种 类较为丰富,三家晶圆厂刻蚀环节国产设备中,中微刻蚀设备占比较高. 此外, 我们有望看到公司按技。

12、安光电华灿光电乾照光电等.技术更新迭代贯穿公司发展的各个阶段.公司 2004 年在张江高科科技园区启动运营,以瞄准世界科技前沿,坚持自主创新为理念,不断推出先进半导体设备产品.2007 年,公司推出首台 CCP 刻蚀设备,2012 年,首台。

13、范围.本次定增于 2021 年 7 月 2 日正式落地,共募集资金 82.07 亿元,发行价格为 102.29 元股,发行股数约 8023 万股,发行对象最终确定为 20 家.大基金二期参与为公司提供了更可靠的实力认证,再融资落定为公司后续。

14、尺度进一步缩小到光刻尺度的 14.随着沉积和刻蚀步骤的增加,刻蚀设备和薄膜沉积设备有望正成为更关键且投资占比最高的设备.伴随逻辑芯片线宽的缩小,除了刻蚀设备用量增大以外,还伴随着刻蚀工艺的革新,大马士革刻蚀工艺就是一种新技术.当逻辑芯片制程。

15、15.67股份,国家集成电路产业投资基金通过巽鑫投资持有公司 15.17股份,国家集成电路产业投资基金二期参与公司定增并持有3.97股份;国开行间接持有公司 1.97股份;南昌智微中微亚洲GRENADE BOOTES 为公司员工持股平台,合。