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2021年中微公司刻蚀设备和MOCVD产品需求趋势分析报告(35页).pdf

上传人: e**** 编号:44151 2021-07-06 35页 3.48MB

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本文主要介绍了中微公司作为国内领先的半导体设备制造商,其业务范围主要集中在刻蚀设备和MOCVD设备的生产和销售。中微公司自2004年成立以来,一直致力于高端半导体设备的研发和生产,其产品广泛应用于国内外知名半导体制造企业。 中微公司的刻蚀设备主要包括CCP和ICP两大类,其中CCP刻蚀设备主要用于刻蚀氧化物、氮化物等硬度高、需要高能量离子反应刻蚀的介质材料,而ICP刻蚀设备主要用于刻蚀单晶硅、多晶硅等材料。中微公司的刻蚀设备产品具有行业竞争优势,正逐步打破国际垄断。 此外,中微公司还积极布局MOCVD设备,用于LED外延片制程。MOCVD设备在LED产业中具有重要作用,随着Mini LED等新型显示技术的发展,MOCVD设备的需求有望进一步增长。 总体来看,中微公司作为国内领先的半导体设备制造商,其产品在国内外市场具有较高的认可度,未来发展前景广阔。
中微公司如何打破国际垄断? 刻蚀设备在半导体制造中起什么作用? 中微公司如何布局未来市场?
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