中微公司-刻蚀设备新星平台型格局初现-20200504[38页].pdf

1、 机械设备机械设备 | 证券研究报告证券研究报告 首次评级首次评级 2020 年年 5 月月 4 日日 688012.SH 买入买入 原评级原评级: 未有评级未有评级 市场价格市场价格:人民币人民币 168.06 板块评级板块评级:未有评级未有评级 本报告要点本报告要点 介质刻蚀、介质刻蚀、CCP刻蚀、刻蚀、ICP刻蚀、量测刻蚀、量测. 股价表现股价表现 (24%) 14% 52% 91% 129% 167% May-19 Jun-19 Jul-19 Aug-19 Sep-19 Oct-19 Nov-19 Dec-19 Jan-20 Feb-20 Mar-20 Apr-20 中微公司上证综指

2、(%) 今年今年 至今至今 1 个月个月 3 个月个月 12 个月个月 绝对 61.8 22.8 (8.4) 0.0 相对上证指数 69.1 18.7 (4.4) 7.1 发行股数 (百万) 535 流通股 (%) 100 总市值 (人民币 百万) 89,889 3个月日均交易额 (人民币 百万) 883 净负债比率 (%)(2020E) 净现金 主要股东(%) 上海创业投资有限公司 18 资料来源：公司公告，聚源，中银证券 以2020年4月30日收市价为标准 相关研究报告相关研究报告 中微公司中微公司 20190705 中银国际证券股份有限公司中银国际证券股份有限公司 具备证券投资咨询业务资

3、格具备证券投资咨询业务资格 机械设备机械设备 : 专用设备专用设备 杨绍辉杨绍辉 (8621)20328569 证券投资咨询业务证书编号：S1300514080001 陈祥陈祥 (8010)66229352 证券投资咨询业务证书编号：S1300519040001 陶波为本报告重要贡献者 中微公司中微公司 刻蚀设备新星，平台型格局初现 公司已经在国内产线展现在公司已经在国内产线展现在 CCP 介质刻蚀领域的竞争实力，介质刻蚀领域的竞争实力，未来成长性未来成长性不不 仅仅在于仅仅在于 CCP 刻蚀刻蚀设备伴随本土晶圆厂投资设备伴随本土晶圆厂投资向好而做大做强，还有向好而做大做强，还有 ICP 刻刻

4、 蚀设备的产业化，以及从刻蚀设备向薄膜沉积设备、量测设备等蚀设备的产业化，以及从刻蚀设备向薄膜沉积设备、量测设备等拓展拓展。 支撑评级的要点支撑评级的要点 刻蚀设备刻蚀设备市场：市场：全球全球规模大但规模大但被被寡头垄断寡头垄断，中微引领介质刻蚀国产化中微引领介质刻蚀国产化。 全球刻蚀设备在晶圆制造工艺设备中占比 20%左右，相当于 120 亿美元 市场规模，但主要被 Lam Research、应用材料、TEL三大国际巨头垄断； 国内刻蚀设备市场商，刻蚀设备国产化率约为 20%左右，其中进口品牌 仍以 Lam Research、应用材料、TEL为主，本土品牌以中微半导体、北方 华创、屹唐半导体

5、为主。 刻蚀设备前景刻蚀设备前景：国内外国内外先进制程、先进制程、3D NAND增加刻蚀设备需求增加刻蚀设备需求，中微受，中微受 益。益。线宽微缩持续增加对刻蚀设备需求，尽管在 7nm以下的制程中 EUV 替代多重曝光减少刻蚀步骤是大势所趋，但因刻蚀技术难度增加而使得 设备需求量不减反增。同时 3D NAND层数增加也降低对光刻工艺的依赖 但对刻蚀、沉积设备需求大幅增加。中微刻蚀设备可用于 7nm/5nm 制程 以及国内 3D Nand产线， 将受益 TSMC、 长江存储等国内外晶圆厂的建产。 中微在刻蚀技术上至少还中微在刻蚀技术上至少还有有 1 倍倍以上扩展空间。以上扩展空间。CCP刻蚀设备

6、主要用于 介质刻蚀，例如在 3D NAND上主要包括顶层通孔、沟道通孔、接触孔、 硬膜/掩模刻蚀、ONO栅极介质刻蚀、台阶刻蚀等工艺，中微已可覆盖 3D NAND中 2/3的介质刻蚀工艺，已成为 TMTC第二大刻蚀设备供应商。ICP 刻蚀设备目前主要用于硅基刻蚀，约占整体刻蚀市场的 1/2， 随着先进制 程和 3D Nand的发展，ICP刻蚀也将应用于介质刻蚀，中微已在 ICP有很 好的产业研制和技术沉淀。 平台型布局：薄膜沉平台型布局：薄膜沉积设备积设备+量测设备。量测设备。中微目前持有沈阳拓荆 10%以上 的股权，间接参与 PECVD 的国产化，并曾于 2019 年表示要入股量测设 备厂商