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中国半导体设备企业有哪些?2021行业龙头盘点

中国的半导体设备相关企业起步较晚,但是在国家资金以及相关政策的大力扶持之下,当前,部分环节已经成长起来了一些较为优秀的龙头企业。

在国内赛道,目前已经上市的公司有:北方华创、中微公司、芯源微、至纯科技、万业企业。除此之外,还有盛美上海、屹唐股份、华海清科、拓荆科技等企业正在IPO当中。下面是这些企业的简单介绍。

北方华创,半导体设备相关产品:刻蚀机、PVD、CVD、ALD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机等。主要客户及公司技术节点:多种28nm技术代集成电路关键装备在大生产线实现量产应用,多种14nm技术代装备已经进入到验证阶段,7nm技术代装备关键技术研发进展顺利。

中微公司,半导体设备相关产品:离子刻蚀设备,公司早期开发了CCP刻蚀机,近年来又开发了ICP刻蚀机。主要客户及公司技术节点:已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线;开发新一代刻蚀设备和包括更先进大马士革在内的刻蚀工艺,能够涵盖5纳米以下更多刻蚀需求和更多不同关键应用的设备。

至纯科技,半导体设备相关产品:湿法设备,包含槽式设备(槽数量按需 配置)及单片机设备(8~12 反应腔)。主要客户及公司技术节点:客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、华润、燕东、台湾力晶等;公司产品在基于28nm的基础上,向14nm及14nm以下制程突破。

盛美上海,半导体设备相关产品:半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备。主要客户及公司技术节点:晶圆制造领域客户主要包括海力士、华虹集团、长江存储、中芯国际、合肥长鑫等;产品可应用于45nm及以下技术节点的晶圆清洗领域。

芯源微,半导体设备相关产品:光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)。主要客户及公司技术节点:主要客户有上海华力、长江存储、武汉新芯、中芯绍兴、厦门士兰集科、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、中芯宁波、昆明京东方等;8/12英寸单晶圆处理(如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节)及6英寸及以下单晶圆处理(如化合物、MEMS、LED芯片制造等环节)。

万业企业,半导体设备相关产品:高端离子注入机为主,包括低能大束流重金属离子注入机及高能离子注入机等,并间接为Compart Systems(全球领先的集成电路气体输送系统领域精密零组件及流量控制解决方案供应商)第一大股东。主要客户及公司技术节点:目标直接定位在适用于16nm及以下规格的FinFET集成电路生产用离子注入设备方面。

屹唐股份,半导体设备相关产品:干法去胶设备、快速热处理设备、干法刻蚀设备。主要客户及公司技术节点:干法去胶设备、快速热处理设备主要可用于90纳米到5纳米逻辑芯片、1y到2x纳米系列DRAM芯片以及32层到128层3D闪存芯片制造中若干关键步骤的大规模量产;干法刻蚀设备主要可用于65纳米到5纳米逻辑芯片、1y到2x纳米系列DRAM芯片以及32层到128层3D闪存芯片制造中若干关键步骤的大规模量产。

拓荆科技,半导体设备相关产品:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备。主要客户及公司技术节点:已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线;广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

华海清科 ,半导体设备相关产品:化学机械抛光(CMP)设备。主要客户及公司技术节点:广泛应用于中芯国际、长江存储、华虹集团、英特尔、长鑫存储、厦门联芯、广州粤芯、上海积塔等集成电路制造商产线中;广泛应用于12英寸和8英寸的集成电路大生产线,产品总体技术性能已达到国内领先水平。

相关上市公司及拟上市公司半导体设备业务布局情况

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文章数据来源:《半导体设备行业系列报告之一:高景气赛道国内企业崭露头角-211111(29页).pdf》

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