当前位置:首页 > 报告详情

高性能DC测试-NI PXI源测量单元及其应用_NI.pdf

上传人: p****n 编号:614161 2025-02-19 30页 13.65MB

word格式文档无特别注明外均可编辑修改,预览文件经过压缩,下载原文更清晰!
三个皮匠报告文库所有资源均是客户上传分享,仅供网友学习交流,未经上传用户书面授权,请勿作商用。
本文主要介绍了美国国家仪器(NI)公司的高性能直流测试解决方案,包括PXI源测量单元(SMU)及其在各种应用中的优势。NI SMUs具有高通道密度,优秀的软件支持,以及高速测量等特点,能够满足半导体生产测试、材料研究、射频集成电路验证和光学测量等多种测试需求。文章中提到,NI SMUs的测量速度比传统盒式仪器快100倍,能够显著减少测试时间,提高生产效率。此外,NI还推出了新的300W PXI电源和电子负载,以及用于直流和阻抗测量的LCR测量仪。NI SMUs的应用案例包括下一代半导体技术参数测试和下一代显示技术的高通量Mini LED测试,均取得了显著的成果。最后,文章提到NI已加入艾默生(Emerson),将继续为客户提供高性能的测试解决方案。
"NI PXI SMUs如何提高测试效率?" "NI PXI SMUs在半导体测试中的应用有哪些优势?" "如何利用NI PXI SMUs进行高通道密度测试?"
客服
商务合作
小程序
服务号
折叠