日本东京电子（TEL）垄断全球涂胶显影设备90%市场份额、2025年中国大陆市场预计达18亿美元、芯源微ArF浸没式设备已获5家国内客户订单——涂胶显影设备国产化正处于加速推进的关键阶段。诚通证券这份报告从市场空间、竞争格局、国产突破三个维度深度拆解了涂胶显影设备行业。

涂胶显影设备是半导体制造光刻工艺中的关键设备，主要用于光刻工艺中的光刻胶涂布和显影过程。性能直接影响光刻工序细微曝光图案的形成以及显影工艺的图形质量，对后续蚀刻和离子注入等工艺中图形转移的结果有着深刻影响。

受益于市场景气度复苏，晶圆厂资本开支增加、产能逐步扩张，涂胶显影设备需求持续攀升。根据国海证券研究所测算：

- 2022/2023/2024/2025年全球前道涂胶显影设备市场空间为38/38/39/45亿美元

- 2025年中国大陆前道涂胶显影设备市场空间预计达18亿美元（约130亿元）

- 其中KrF及以下节点9.4亿美元、ArFi 6.0亿美元、其他2.7亿美元

涂胶显影设备行业集中度极高，全球主要制造商包括：

- 日本东京电子（TEL） ：2023年全球市占率达90%，特别是28nm及以下节点的ArFi浸没式涂胶显影设备完全垄断

- 日本迪恩士（DNS） ：主要竞争对手之一

- 德国苏斯微（SUSS） ：光刻解决方案及晶圆键合

- 台湾亿力鑫（ELS） ：小尺寸全自动黄光制程设备

- 韩国CND ：全自动黄光设备

前道涂胶显影设备的市场和工艺技术长期以来被国外厂商垄断，我国目前尚未掌握28nm及以下ArFi浸没式涂胶显影技术。

芯源微是国内唯一可提供量产型前道涂胶显影设备的厂商：

- 成功推出offline、i-line、KrF、ArF浸没式等多种型号产品

- ArF浸没式高产能涂胶显影设备已获国内5家重要客户订单

- 实现28nm及以上节点设备国产替代

- 高端ntd负显影、SoC涂布等新机台销售进展良好

2025年上半年，芯源微前道涂胶显影产品持续获得国内头部逻辑、存储等客户订单，offline、i-line、KrF机台在多家客户端量产跑片数据良好，客户认可度持续提升。后道涂胶显影机持续获得国内多家客户批量重复性订单及海外封装龙头客户批量重复性订单。

尽管已有突破，当前国内前道涂胶显影设备国产化率仍较低，与国际先进水平存在差距。随着国家对半导体产业重视和支持力度加大，以及国内企业在技术研发、人才培养等方面持续投入，涂胶显影设备国产化进程有望不断加快。芯源微作为国内涂胶显影设备龙头，有望受益于前道涂胶显影设备国产化替代趋势。