什么是光掩膜？分类有哪些？生产工艺流程介绍

1、光掩模

光掩模版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是在含有铬等金属薄膜的玻璃基板(Blanks)上，形成复杂几何图形(Geometry)的图形转移母板即俗称的Mask，是光刻工艺中复印光致抗蚀掩蔽层的“印相底片”。

光掩模是由基座(Blank)和薄膜(Pellicle)两部分组成，其中，基座(Blank)的结构可分为substrate-玻璃;Metal
file—铬膜;薄膜( Pellicle Membrane)由硝化纤维素;外框(Frame);黏胶(adhesive tape)组成。

光掩模应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如 IC(Integrated Circuit，集成电路)、FPD(Flat Panel
Display，平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical
Systems，微机电系统)等。

2、光掩模分类

光掩膜按用途分类可分为四种，分别为铬版(chrome)、干版、液体凸版和菲林。

(1)铬版(chrome)

具有精度高、耐用等特性，但价格相对较高。

(2)干版

精度适中、耐用性适中、价格适中。

(3)菲林

主要用来转移PI液等。

(4)液体凸版

精度低、耐用性也不高但价格低。

3、光掩模生产工艺流程

图形设计→图形转换→图形光刻→显影→刻蚀→脱模→清洗→尺寸测量→缺陷检查→缺陷修补→清洗→贴膜→检查→出货。

在基板(Blanks)上涂上光阻(Resist)材料，利用镭射电子束设备绘刻出所需的各种
Geometry，并继续进行显影的制程，去除掉基板(Blanks)上多余的光阻材料，再透过蚀刻的制程，去除掉不被光阻材料覆盖的铬膜，最后再清洗残留下来的光阻材料，最后便会依照铬膜的线路，让Geometry
留在玻璃基板上。最后还必须进行检查、测量并确认是否正确精准的形成了
Geometry，并在超高精细的光罩上贴附用来防止灰尘以及静电的保护(Coating)之后出厂。

来源：《【研报】化工行业掩膜版：光刻工艺“底片”国产替代步伐加快-20200614[27页].pdf 》

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