电子行业专题：芯片制造核心瓶颈环节光刻机国产替代加速推进-231201（53页）.pdf

1、 本报告版权属于安信证券股份有限公司，各项声明请参见报告尾页。1 20232023 年年 1212 月月 0101 日日 电子电子 行业专题行业专题 芯片制造核心瓶颈环节，光刻机国产芯片制造核心瓶颈环节，光刻机国产替代加速推进替代加速推进 证券研究报告证券研究报告 投资评级投资评级 领先大市领先大市-A A 维持维持评级评级 首选股票首选股票 目标价（元）目标价（元）评级评级 688167 炬光科技 139.30 买入-A 603005 晶方科技 26.37 买入-A 300990 同飞股份 48.30 买入-A 003031 中瓷电子 142.6 买入-A 行业表现行业表现 资料来源：Win

2、d 资讯 升幅升幅%1M1M 3M3M 12M12M 相对收益相对收益 2.6 11.3 13.4 绝对收益绝对收益 0.2 3.6 4.1 马良马良 分析师分析师 SAC 执业证书编号：S1450518060001 郭旺郭旺 分析师分析师 SAC 执业证书编号：S1450521080002 相关报告相关报告 美国政府 30 亿美元投资先进封装，全球手机市场或迎来复苏拐点 2023-11-26 VIVO 发布首款 AI 大模型手机，小米汽车亮相工信部新车目录 2023-11-19 中芯国际上调全年资本开支预计，Meta VR 或于明年底引进国内 2023-11-12 整车互连技术趋势及元器件投

3、资机遇 2023-11-09 长鑫存储获大基金增资，新2023-11-05 光刻机是芯片制造核心设备，对制程升级发挥关键作用：光刻机是芯片制造核心设备，对制程升级发挥关键作用：在芯片制造过程中，光刻工艺是最关键的一步，能够将图案从光掩模高精度地转移到衬底（通常是硅片）上。芯片工艺升级的主要目标之一是在半导体器件上实现更小的特征尺寸，具有先进技术的光刻机，如极紫外（EUV）光刻，允许更短的光波长，从而能够创建更小的图案并实现更高的分辨率，对芯片制程升级发挥关键作用。DUV 光刻机通过多重曝光最高实现 7nm 制程，而波长更短的 EUV 光刻机可以实现 5nm 及以下制程。全球全球光刻机市场光刻机

4、市场超过超过 200200 亿美元，亿美元，ASMLASML 垄断高端市场垄断高端市场：2022 年全球光刻机市场超过 200 亿美元，ASML、Canon、Nikon 三大巨头垄断了大部分市场份额，光刻机营收分别达到了 161 亿美元、20 亿美元、15 亿美元，市场份额分别为 82%、10%、8%。在超高端的 EUV 光刻机上，基本上 ASML 处于垄断地位。国产国产 2 28 8nmnm immersionimmersion 式式光刻机实现突破光刻机实现突破：国产光刻机在技术节点上与国际厂商相比仍有差距，其中上海微电子是国内光刻机龙头企业，其 SSX600 系列光刻机可满足 IC 前道制

5、造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于 8 寸线或 12 寸线的大规模工业生产。在之前 90nm 的基础上，上海微电子即将量产 28nm immersion 式光刻机，在 2023 年交付国产第一台 SSA/800-10W 光刻机设备。国内厂商在多个光刻机零部件环节实现突破国内厂商在多个光刻机零部件环节实现突破：全球光刻机零部件市场规模约 124 亿美元，在零部件市场上，国内厂商已经在多个环节实现突破。茂莱光学研发的 DUV 光学透镜已应用于 SMEE 国产光刻机中，公司半导体检测设备光学模组供货KLA，公司投影镜分辨率达到 30nm 以下，而国外的 ZE

6、ISS 分辨率小于 0.25nm；目前针对 EUV 光源，国内也有研究机构取得一定进展。早在 2017 年，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所的“极紫外光刻关键技术研究”获得国家 02 专项的验收，从而推进了我国对 EUV 的技术研发；福光股份有望为光刻机等领域提供高精密光学镜头及光学系统；苏大维格向 SMEE 提供定位光栅部件，公司光栅尺周期精度小于 1nm，且公司纳米压印技术国内领先；而-11%-1%9%19%29%39%2022-122023-042023-072023-11电子电子沪深沪深300300 本报告版权属于安信证券股份有限公司，各项声明请参见报告尾页。2 行业专题行业专题