电子行业专题:芯片制造核心瓶颈环节光刻机国产替代加速推进-231201(53页).pdf

上传人: 潘**** 编号:147322 2023-12-05 53页 4.32MB

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本文主要分析了光刻机行业的发展现状和前景。光刻机是芯片制造的核心设备,其市场规模达200多亿美元,ASML垄断高端市场。国产光刻机在技术上与国际厂商存在差距,但上海微电子在28nm immersion式光刻机上取得突破。光刻机主要由光源系统、光学系统、双工台系统等组成,光源系统壁垒高,茂莱光学、福晶科技等国内企业已实现部分突破。光学系统技术壁垒高,福光股份、炬光科技等企业有望为光刻机提供关键部件。双工台系统技术壁垒高,华卓精科等国内企业走在前列。文章还分析了相关标的,包括茂莱光学、福晶科技、福光股份、炬光科技、晶方科技、苏大维格、奥普光电、波长光电、旭光电子、腾景科技、同飞股份、中瓷电子、芯碁微装等。
国产光刻机技术进展如何? 光刻机市场有哪些主要参与者? 光刻机的核心技术有哪些?
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