拓荆科技-国内PECVD设备龙头受益国产替代加速-220513（27页）.pdf

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1、 有关分析师的申明，见本报告最后部分。其他重要信息披露见分析师申明之后部分，或请与您的投资代表联系。并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 拓荆科技-U 688072.SH 公司研究 | 首次报告 国内国内 PECVD 龙头厂商，龙头厂商，国际化研发团队助力发展国际化研发团队助力发展。公司 2010 年成立，自成立至今一直专注于半导体薄膜沉积设备业务，主要产品包括 PECVD 设备、ALD 设备和SACVD 设备三个系列，目前公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备和 SACVD 设备厂商。公司的产品已适配国内最先进的 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯

2、片和 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线。以姜谦、吕光泉前后两任董事长为核心的五名国家级高层次专家组建起一支国际化的技术团队，研发经验和产线调试经验丰富，助力公司长期发展。 半导体设备需求旺盛，技术升级拉动薄膜沉积设备投资提升半导体设备需求旺盛，技术升级拉动薄膜沉积设备投资提升。受益新能源汽车、5G手机、人工智能和可穿戴设备等新技术、新产品的发展，据 WSTS 预测，全球半导体产品市场规模将在 2022 年增长至 6015 亿美元，同比增长 9%，设备投资需求亦将进一步提升。同时，逻辑芯片结构复杂化推动沉积设备用量提升，以中芯国际180nm8 寸产线和 90nm12 寸

3、产线为例，每万片月产能所需的 CVD 设备、PVD 设备分别增加 3 倍和 4 倍左右。存储芯片方面，3D NAND 相比 2D NAND 薄膜沉积设备投资占比由 18%提升至 26%。 深耕深耕 PECVD 领域，同时布局领域，同时布局 SACVD、ALD 设备，引领设备，引领 CVD/ALD 设备国产化设备国产化。薄膜沉积设备占晶圆制造设备投资比例约 22%；薄膜沉积设备中，PECVD 设备占比约 33%，是最主要薄膜沉积设备类型，ALD 在其中占比约 11%，加上 SACVD 设备，拓荆科技约可覆盖近半的薄膜沉积设备需求。从国产化角度看，目前薄膜沉积设备国产化率仅约 5.5%（拓荆科技占

4、据 3.8%，主要供应 PECVD 设备，北方华创占据 1.7%，主要供应 PVD 设备），未来仍有广阔国产化空间。拓荆客户群体包括中芯国际、长江存储、华虹集团、ICRD 等主流大客户，受益大客户产能建设和对SACVD、ALD 设备的验证通过，公司份额有望快速提升。同时，公司也通过募投项目进一步加强 28nm 以下产品竞争力，并积极开展 10nm 以下产品开发。 我们预测公司 22-24 年每股收益分别为 0.92、1.72、2.86 元，由于薄膜沉积设备国产化空间巨大，我们采用绝对估值法（FCFF），给予166.44元目标价，首次给予买入评级。 风险提示风险提示 半导体设备行业景气度不及预期

5、；客户验证进展不及预期；零部件断供风险；市场份额提升不及预期；政府补助持续性风险。 2020A 2021A 2022E 2023E 2024E 营业收入(百万元) 436 758 1,239 1,842 2,535 同比增长(%) 73.4% 74.0% 63.4% 48.7% 37.6% 营业利润(百万元) (14) 56 117 229 402 同比增长(%) 29.0% 509.2% 107.7% 95.9% 75.7% 归属母公司净利润(百万元) (11) 68 116 218 362 同比增长(%) 40.7% 696.1% 69.5% 87.4% 66.5% 每股收益（元） (0.

6、09) 0.54 0.92 1.72 2.86 毛利率(%) 34.1% 44.0% 42.9% 42.9% 43.3% 净利率(%) -2.6% 9.0% 9.4% 11.8% 14.3% 净资产收益率(%) -1.2% 5.9% 5.0% 6.1% 9.4% 市盈率 (1,425.6) 239.2 141.1 75.3 45.2 市净率 14.6 13.7 4.8 4.5 4.1 资料来源：公司数据. 东方证券研究所预测. 每股收益使用最新股本全面摊薄计算. 盈利预测与投资建议 核心观点 公司主要财务信息 股价（2022年05月12日） 129.5 元 目标价格 166.44 元 52 周