拓荆科技-国产薄膜沉积设备产业化先锋布局PECVD+ALD+SACVD-220421（63页）.pdf

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1、分析师：陈杭登记编号：S1220519110008联系人：胡园园证 券 研 究 报 告2022 年 4月 21 日【方正电子 公司深度报告】拓荆科技（688072）国产薄膜沉积设备产业化先锋布局PECVD+ALD+SACVD投资要点 PECVD+SACVD+ALD，国产薄膜沉积产业化先锋。公司核心团队具备诺发/爱思强/Intel等大厂技术背景，为多项PECVD/ALD/SACVD国家专项牵头人。大基金/中微/国投等资本支持下，公司是国内唯一一家产业化应用PECVD、SACVD设备的厂商，具备不可替代性。 客户覆盖核心晶圆厂，持续受益扩产成就规模化成长。2022年往后看，内资晶圆厂12吋潜在扩产

2、产能至少155万片/月，支撑3-4年高景气扩产周期。公司客户中芯国际/长存/华虹/晶合/粤芯/长鑫，覆盖下游核心晶圆厂，未来将持续受益下游扩产实现高速规模化成长。 贸易争端威胁供应链安全，国产替代势在必行。全球半导体设备市场呈现日、欧、美供应商垄断态势，中国大陆半导体设备综合自给率很低。大国博弈背景下，保证产业供应链安全迫在眉睫；国产化下国内设备厂商厚积薄发，高速放量。、集微咨询、拓荆科技招股书、方正证券研究所整理2 盈利预测：我们预计公司2022-2024年营业收入分别为12.4/18.9/26.3亿元，归母净利润分别为1.3/2.3/3.7亿元，首次覆盖，给予“推荐”评级。 风险提示：（1

3、）下游晶圆厂扩产不及预期；（2）产业研发与产业化应用不及时；（3）上游供应紧张影响出货。单位单位/ /百万百万202120212022E2022E2023E2023E2024E2024E营业总收入758 1239 1894 2625 (+/-)(%)73.99 63.43 52.91 38.59 归母净利润68 129 230 371 (+/-)(%)696.10 87.75 78.93 61.35 EPS(元)0.72 1.02 1.82 2.93 ROE(%)5.74 3.73 6.25 9.17 P/E0.00 99.93 55.85 34.61 P/B0.00 3.73 3.49 3.

4、17 盈利预测盈利预测zW8VmUhYlYmUgWpYjZaQ8Q8OpNrRnPsQkPrRrNlOoMmQ7NqQyRuOmRtMNZmPsP目录3拓荆科技：国产薄膜沉积设备先锋1财务分析：营收高速增长，合同负债创新高2产品实力：技术铸就极强不可替代性3市场需求：沉积需求叠加，国产替代高景气4盈利预测5拓荆科技：国产薄膜沉积产业化先锋4ALDSACVDPF-300TPF-200TPECVD等离子增强化学气相沉积 拓荆科技成立于2010年，主营半导体薄膜沉积设备，PECVD、ALD、SACVD三个产品系列已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程

5、产品验证测试；且公司是目前国内唯一一家产业化应用PECVD、SACVD设备的厂商。原子层沉积次常压化学气相沉积PE-ALDThermalALDSA-300TSA-200T2018. 1012英寸ALD通过客户14nm产业化验证2018.12首台14nm硬掩膜ACHM 机台出厂到客户端2020. 09认定为“辽宁省企业技术中心”2020.12“十三五”国家重大专项通过验收2020.12客户端总流片量超过1500万片2019. 09SACVD研制成功并出厂到客户端2019.10获批设立“辽宁省博士创新实践基地”2019.12泛半导体应用TLITE研制成功2019.12获评国家知识产权示范企业发展历

6、程：PECVDALDSACVD2010.04沈阳拓荆科技有限公司成立2011.10推出12英寸多反应腔PF-300T设备2013.04首台12寸PF-300销售2013.12PF-300T通过中芯国际产品线测试2014.12获批组建“辽宁省薄膜设备工程研究中心”2015.09获国家集成电路产业投资基金战略投资2015.12获批“十三五”国家重大专项2017.12首台量产型HTM PECVD 出厂到客户端2016.4“十一五”国家重大专项通过验收2016.12拓荆新厂投入使用2012.12推出12英寸多反应腔PF-300T4设备2022继续引领国内半导体薄膜沉积设备和技术的发展5股权结构：无控股