拓荆科技-深度报告：薄膜设备领军者率先量产受益国产替代窗口期-220421（39页）.pdf

《拓荆科技-深度报告：薄膜设备领军者率先量产受益国产替代窗口期-220421（39页）.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《拓荆科技-深度报告：薄膜设备领军者率先量产受益国产替代窗口期-220421（39页）.pdf（39页珍藏版）》请在三个皮匠报告上搜索。

1、本公司具备证券投资咨询业务资格，请务必阅读最后一页免责声明 证券研究报告 1 拓荆科技-U（688072.SH）深度报告 薄膜设备领军者，率先量产受益国产替代窗口期 2022 年 04 月 21 日 Table_Summary 拓荆科技：国产半导体薄膜沉积设备龙头。公司主业为半导体薄膜设备，于PECVD 领域率先获得了突破，同时在 ALD、SACVD 设备上崭露头角，成为国内唯一实现量产 PECVD、SACVD 设备的厂商。公司近三年的营收增速迅猛，从2018 年的 0.71 亿元增长到 2021 年的 7.58 亿元，年复合增长率高达 121%。公司凭借先进的自研产品，广泛供应中芯国际、华虹

2、集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、 燕东微电子等国内主流晶圆厂产线， 打破国际厂商对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。 景气度上行驱动半导体设备需求， 国产替代进程提速。 下游晶圆厂扩产持续，设备景气度上行，Maximize Market Research 预计全球半导体薄膜沉积设备市场规模将从 2020 年的 172 亿美元扩大至 2025 年的 340 亿美元，保持年复合 13.3%的增长速度。在“02 专项” 、 “大基金”等政策扶持下，中国涌现了一批本土供应商，推进设备国产化进程。随着半导体产业转移的加速、技术的更新换代、晶圆厂高资本开支的推动及国内主要厂商对国产供应链的培育，国内

3、的半导体企业将迎来难得的机遇。公司作为国内薄膜设备领域领先且稀缺性的厂商，将充分受益于国产替代进程。 稀缺性薄膜设备供应商， 三大品类纵深发展。 公司专注于薄膜沉积设备领域，主要拥有三大产品线。PECVD 设备系公司核心产品，针对下游对于不同材料薄膜 PECVD 设备的需求，已实现 180-14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 及64/128 层 3D NAND 的覆盖。ALD 设备可实现关键尺寸精度控制，用于 28-14nm 产业化制造以及 2.5D、 3D 封装， 公司已实现量产 PE-ALD 设备。 SACVD是新兴的设备类型，市场规模较小， 公司 2020 年首次实现量产，20

4、21 年营收增至 4116 万元，有望成为公司新的增长点。 目前公司薄膜沉积设备已获得众多国内主流半导体企业的认可，并且建立了稳定的合作关系，良好的口碑助力公司设备迎来放量。2020 年国内薄膜沉积设备产品市场约为 45.22 亿美元，其中 PECVD 市场规模约为 14.92 亿美元，ALD 市场规模约为 4.97 亿美元。而同期作为国内龙头的拓荆科技营收仅 4.36 亿人民币，仍有可观的国产化替代空间。 本次发行公司拟募集资金 10.0 亿元，实际募集 22.7 亿元，将投向高端半导体设备扩产、技术研发与改进项目和补流，支撑公司长线扩张。 投资建议：拓荆作为国内半导体薄膜设备龙头，具有较强

5、的自主开发能力和市场竞争力。 我们预计公司 2022-2024 年将实现营收 12.46/20.02/29.43 亿元，对应现价 2022-2024 年 PS 为 9/6/4 倍，我们看好公司业务的长线成长，首次覆盖，给予“推荐”评级。 风险提示：产品验证不及预期；行业周期性波动；募投项目投产不及预期。 Table_Profit 盈利预测与财务指标 项目/年度 2021 2022E 2023E 2024E 营业收入（百万元） 758 1,246 2,002 2,943 增长率（%） 74.0 64.4 60.6 47.0 归属母公司股东净利润（百万元） 68 162 292 455 增长率（%

6、） 696.1 136.1 80.8 55.6 每股收益（元） 0.54 1.28 2.31 3.60 PE 170 72 40 26 PS 15 9 6 4 资料来源：Wind，民生证券研究院预测； （注：股价为 2022 年 4 月 20 日收盘价） 推荐 首次评级 当前价格： 92.3 元 分析师： 方竞 执业证号： S0100521120004 电话： 15618995441 邮箱： 拓荆科技(688072)/电子 本公司具备证券投资咨询业务资格，请务必阅读最后一页免责声明 证券研究报告 2 目录 1 国产半导体薄膜沉积设备龙头，品类扩张持续 . 3 1.1 国产半导体薄膜沉积设备龙头