拓荆科技-专注薄膜沉积工艺CVD市场地位快速上升-220419（30页）.pdf

《拓荆科技-专注薄膜沉积工艺CVD市场地位快速上升-220419（30页）.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《拓荆科技-专注薄膜沉积工艺CVD市场地位快速上升-220419（30页）.pdf（30页珍藏版）》请在三个皮匠报告上搜索。

1、 半导体设备半导体设备 | 证券研究报告证券研究报告 首次评级首次评级 2022 年年 4 月月 19 日日 688072.SH 买入买入 原评级原评级: 未有评级未有评级 IPO 价格价格:人民币人民币 71.88 元元 板块评级板块评级:强于大市强于大市 本报告要点本报告要点 PECVD、ALD、SACVD 发行股数 (百万) 31.62 流通股 (%) 25 总市值 (人民币 百万) 9091.30 相关研究报告相关研究报告 半导体设备行业半导体设备行业 2022年一季报展望年一季报展望20220330 拓荆科技新股报告：拓荆科技新股报告：主导主导 PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉

2、积设备国产化等薄膜沉积设备国产化20210726 中银国际证券股份有限公司中银国际证券股份有限公司 具备证券投资咨询业务资格具备证券投资咨询业务资格 机械机械 : 半导体半导体设备设备 证券分析师：证券分析师：杨绍辉杨绍辉 (8621)20328569 证券投资咨询业务证书编号：S1300514080001 拓荆科技拓荆科技 专注薄膜沉积工艺，CVD市场地位快速上升 支撑评级的要点支撑评级的要点 管理团队：丰富的国际半导体设备从业经验。管理团队：丰富的国际半导体设备从业经验。公司创始人、董事长、总经理等在内的技术团队拥有泛林、美国诺发、Mattson、Intel等的 CVD、ALD、量测、刻蚀

3、等设备与工艺方面长达 40年的丰富行业经验。 市场定位：专注薄膜沉积设备与工艺，目标客户均为国内外主流晶圆制造客市场定位：专注薄膜沉积设备与工艺，目标客户均为国内外主流晶圆制造客户。户。公司核心产品包括 PECVD、ALD、SACVD，三大产品合计价值量约占薄膜沉积设备（CVD+PVD+ECD）的 1/2，约占 WFE 的 10%。公司核心客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内外主流晶圆厂客户， 已广泛应用于国内晶圆厂 14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm及以下制程产品验证测试。 市场地位： 主导着介质薄膜沉积设备的国产化。市场地位： 主导

4、着介质薄膜沉积设备的国产化。 成立于 2010年， 与北方华创、盛美、中微、芯源微、华海清科等同属于国内知名的半导体工艺设备厂商，主导介质薄膜沉积设备的国产化。 据招股书， PECVD的主要竞争对手是 Applied Materials、Lam Research，拓荆在部分本土产线的市占率 17%；SACVD 竞争对手是 Applied Materials，拓荆的市占率 25%；ALD 主要竞争对手是 ASMI 和 Lam Research。2021年拓荆收入跨越 1亿美元门槛。 底层技术：自主研发的底层技术：自主研发的 8 大核心技术达到国际先进水平。大核心技术达到国际先进水平。公司的 8大

5、核心技术包括先进薄膜工艺设备设计、反应模块架构布局、半导体制造系统高产能平台、等离子体稳定控制技术、反应腔腔内关键件设计、半导体沉积设备气体输运控制系统、气体高速转换系统设计、气体高速转换系统设计技术。目前拓荆已研发并生产 16种不同工艺的 PECVD设备,已研发并生产 3种不同工艺的 SACVD设备，已量产 PE-ALD、正在研发 Thermal-ALD。 财务表现：订单充裕，收入高增长，毛利率升至财务表现：订单充裕，收入高增长，毛利率升至 44%。2021年底合同负债 4.88亿元，相比 2020 年 1.34 亿元大幅增长。公司收入从 2018 年的 0.71 亿元增长至 2021年的

6、7.58亿元，复合增速 120%，2022Q1收入指引 1-1.2亿元，同比增长 73%-108%。 成长逻辑：市占率提升叠加国内外半导体设备行业长期成长。成长逻辑：市占率提升叠加国内外半导体设备行业长期成长。2022 年全球WFE市场规模 1000多亿美元，其中薄膜沉积设备市场规模约 200亿美元，拓荆三大产品对应可覆盖全球市场规模近 75 亿美元、对应中国大陆市场约15-22.5亿美元，而拓荆去年收入为 7.58亿元，未来成长空间广阔。 投资建议投资建议 预计未来三年收入的复合增速达 50%，IPO定价对应市值相当于 22、23年 PS估值 7倍和 5倍，相比行业平均有显著估值优势，首次覆