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1、(1) 至纯科技拥有 8-12 英寸高阶单晶圆湿法清洗设备和槽式湿法清洗设备的相关技术,产品覆盖晶圆制造、先进封装、太阳能等多个下游应用。公司湿法设备有槽式和单片式(812 反应腔)两种,可以提供到 28 纳米节点全部湿法工艺,已经切入中芯国际、华虹集团等一线用户,单片式湿法设备已获得国内重要用户多个订单。(2) 盛美半导体是国内半导体清洗设备的龙头,在 12 寸线清洗设备处于行业领先地位,产品线丰富,清洗设备营收体量国内最大。公司主要产品为集成电路领域的单片清洗设备,其中包括单片 SAPS 兆声波清洗设备、单片 TEBO 兆声波清洗设备、单片背面清洗设备、单片前道刷洗设备、槽式清洗设备、单片
2、槽式组合清洗设备等。(3) 北方华创是国内半导体设备龙头,产品线丰富,包括刻蚀机、PVD、CVD、ALD、氧化/扩散炉、退火炉、清洗机,公司通过收购美国半导体设备生产商 Akrion Systems LLC 完善了清洗设备产线,目前公司主要清洗设备产品为单片和槽式清洗设备,可适用于技术节点为 65nm、28nm 工艺的芯片制造。(4) 芯源微目前产品主要产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机),公司生产的前道 Spin Scrubber 清洗机设备目前已达到国际先进水平,成功实现进口替代,已经在中芯国际、上海华力、厦门士兰集科等多个客户处通过工艺验证,并获得国内多家 Fab 厂商的批量重复订单。