2024掩膜版行业国产化需求、国产替代空间及龙头企业清溢光电、路维光电分析报告（33页）.pdf

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1、2 0 2 3 年深度行业分析研究报告目录目录 1 1、掩膜版：半导体和平板显示制作的图形转移母板、掩膜版：半导体和平板显示制作的图形转移母板 2 2、平板显示掩膜版：产能转移带动国产化需求，技术迭代推动产品发展、平板显示掩膜版：产能转移带动国产化需求，技术迭代推动产品发展 3 3、半导体掩膜版：晶圆厂持续扩产，成熟制程存在巨大国产替代空间、半导体掩膜版：晶圆厂持续扩产，成熟制程存在巨大国产替代空间 4 4、清溢光电：国产掩膜版领航者，面板、清溢光电：国产掩膜版领航者，面板+半导体双翼齐飞半导体双翼齐飞 5 5、路维光电：我国掩膜版头部企业，“以屏带芯”拥抱国产替代浪潮、路维光电：我国掩膜版头

2、部企业，“以屏带芯”拥抱国产替代浪潮 掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩膜版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。图图 2 2：掩膜版在半导体生产中的应用：掩膜版在半导体生产中的应用 资料来源：清溢光电招股说明书 1.1 1.1 掩膜版：微电子制造的图形转移母板掩膜版：微电子制造的图形转移母板 图图 1 1：掩

3、膜版工作原理：掩膜版工作原理 资料来源：龙图光罩招股说明书（注册稿）掩膜版广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。掩膜版广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。TFT-LCD制造过程中，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，将设计好的TFT阵列和彩色滤光片图形按照薄膜晶体管的膜层结构顺序，依次曝光转移至玻璃基板，最终形成多个膜层所叠加的显示器件。晶圆制造过程中，其制造过程需要经过多次曝光工艺，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半导体晶圆表面形成栅极、源漏极、掺杂窗口、电极接触孔等。半导体掩膜版在最小线宽、CD 精度、位置精度等重要参数方面的要求，均显著高于平板显示、PCB 等领域掩膜版产品。

4、资料来源：龙图光罩招股说明书（注册稿），SEMI，Omdia，光大证券研究所整理 1.2 1.2 掩膜版：半导体和平板显示为两大主要应用领域掩膜版：半导体和平板显示为两大主要应用领域 表表 1 1：各类掩膜版及下游应用占比：各类掩膜版及下游应用占比 产品类型产品类型 产品应用领域产品应用领域 下游下游应用应用市市场场占占比比 下游应用代表厂商下游应用代表厂商 半导体掩膜版 逻辑电路制造、模拟电路制造、功率器件制造、MEMS传感器制造、IC封装等 60%台积电、英特尔、中芯国际、华虹半导体、华润微、中芯集成、士兰微、积塔半导体、比亚迪半导体、立昂微、燕东微、高德红外、长电科技等 平板显示掩膜版

5、LCD 显示屏制造、OLED显示屏制造等 28%京东方、天马微电子、华星光电、中电熊猫、惠科等 其他 电路板（PCB、FPC）制造、触控屏（TP）制造、光学器件制造等 12%蓝思科技、紫翔电子等 关键参数关键参数 关键参数说明关键参数说明 半导体掩膜版半导体掩膜版 平板显示掩膜版平板显示掩膜版 PCBPCB掩膜版掩膜版 掩膜版最小线宽 掩膜版线宽越小，制作难度越高，对应下游产品线宽越小 0.5m 1.2m 10m CD 精度 数值越小，说明精度越高 0.02m 0.10m 0.50m CD 精度均值偏差 数值越小，说明精度稳定性越高 0.02m 0.12m 1m 位置精度 数值越小，掩膜版实际

6、图形位置坐标与设计值的偏差越小，精度越高 0.02m 0.28m 套刻层数 下游生产时使用的掩膜版的层数，层数越多对套刻精度要求越高 成套芯片用掩膜版包含的张数较多，通常十几张到数十张不等 成套的平板显示用掩膜版一般数量相对较少，即使是AMOLED一般也仅需十数张 通常张数为个位数 表表 2 2：各类掩膜版参数：各类掩膜版参数 注：此处掩膜版最小线宽指掩膜版产品本身的最小线宽。由于半导体光刻时使用投影式光刻，掩膜版上曝光的图案按照4:1 的比例投影至晶圆上，因此0.5m的掩膜版自身最小线宽对应下游半导体线宽约为130nm。显示面板、PCB 在曝光时通常采用接近式光刻，掩膜版上的图案按照1:1