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半导体行业系列专题(二)之碳化硅:衬底产能持续扩充关注渗透加速下的国产化机会-240110(40页).pdf

上传人: 云*** 编号:151284 2024-01-12 40页 2.61MB

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本文主要内容概括如下: 1. 碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料,具有高击穿电场、高导热率以及高饱和电子漂移速度等特性,制备的器件相较于硅基产品能够降低80%损耗的同时将器件尺寸缩小90%,在新能源汽车、光伏以及轨道交通等领域具备广阔的替代空间。 2. 2026年全球SiC器件市场规模将达71亿美元,其中新能源汽车作为SiC器件增长的主要驱动力,预计2027年全球车用SiC功率器件市场规模将达50亿美元。 3. 碳化硅衬底技术壁垒高,为价值链条核心环节,成本占比高达47%。2026年全球导电型SiC衬底市场规模将达16亿美元,2026年全球半绝缘型SiC衬底市场规模将达4亿美元。 4. 国内市场,天科合达的导电型SiC衬底产能处于全面领先位置,预计2025年天科合达折合6英寸的导电型SiC衬底月产能将达到4.9万片。 5. 投资建议:随着SiC头部厂商纷纷采取扩产,以及生产工艺、流程持续优化改善,当前SiC价格开始持续下探,在量增+价降的双重驱动下,SiC上车速度明显加快,国产SiC厂商有望迎来发展良机。
碳化硅材料性能如何突出? 碳化硅器件优势有哪些? 碳化硅产业链国产化进展如何?
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