《半导体行业:掩模版光刻蓝本蓄力国产替代国内成长空间广阔-231021(21页).pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《半导体行业:掩模版光刻蓝本蓄力国产替代国内成长空间广阔-231021(21页).pdf(21页珍藏版)》请在三个皮匠报告上搜索。
1、 敬请参阅末页重要声明及评级说明 证券研究报告 掩模版:光刻蓝本蓄力国产替代,国内成长空间广阔 Table_IndNameRptType 半导体半导体 行业研究/深度报告 行业评级:增持行业评级:增持 报告日期:2023-10-21 Table_Chart 行业指数与沪深行业指数与沪深 300 走势比较走势比较 Table_Author 分析师:陈耀波分析师:陈耀波 执业证书号:S0010523060001 邮箱: Table_Report 主要观点:主要观点:Table_Summary 掩模版是掩模版是微电子制造过程中的图形转移母版,精度和质量会直接影微电子制造过程中的图形转移母版,精度和质
2、量会直接影响下游制品的优品率响下游制品的优品率 掩模版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形,用于选择性地阻挡曝光、辐照或物质穿透,将设计好的芯片电路图通过曝光等工艺转移至下游行业的基板或晶圆上,是微电子制造过程中的图形转移工具或者母版。作为光刻复印图形的基准和蓝本,掩模版是连接工业设计和工艺制造的关键,掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。掩模版掩模版属于定制化产品属于定制化产品,具备一定抗周期属性,具备一定抗周期属性 掩模版属于定制化产品,不同下游领域的不同客户对于掩模版的尺寸、精度要求均有不同。例如,当终端电子产品处于下行周期时,客户会试图通过推出新品来刺激消费需求。
3、而各种新品在研发过程中就需要用到不同的掩模版,因此会在一定程度上降低掩模版由于行业下行带来的需求下降影响。产能转移与新兴技术将共同促进全球掩模版市场规模增长产能转移与新兴技术将共同促进全球掩模版市场规模增长 半导体与平板显示是掩模版最大的两块下游应用。目前全球半导体掩模版市场规模约 87 亿美元。随着制程和产品复杂度的提升,下游产品对于掩模版精度的要求也更高,对于光罩的层数要求也会提升,从而带动全球掩模版市场增长。在面板市场,当前全球市场规模约 61 亿元。面板市场中,OLED 由于相比 LCD 对产品的精度要求更高,所以报价也更高。因此,OLED 渗透率的提升也有望促进掩模版市场规模增长。国
4、内市场对于三方掩模版厂商需求较大国内市场对于三方掩模版厂商需求较大,国产替代空间广阔,国产替代空间广阔 面板厂商基本不存在面板厂自行配套掩模版的情况。而在半导体领域中,部分头部代工厂具备自行配套掩模版的能力,但这种情况主要出现在 28nm 及以下的先进制程中。在国内半导体市场,仅中芯国际、台积电(南京)等少数企业具备掩模版生产能力。因此,国内市场对于三方掩模版厂商的需求较大。目前国内半导体光掩膜版的国产化率约为10%,高端光掩膜版国产化率仅为 3%,国产替代空间广阔。本土企业本土企业积极布局,积极布局,均已开始进行均已开始进行针对半导体针对半导体 130nm 以下制程节点以下制程节点的项目投资
5、的项目投资 本土企业已在面板领域与 130nm 以上制程节点实现量产。而在半导体130nm 以下制程节点中,国内三方掩膜板厂商尚未实现国产替代。2022年 10 月美国商务部公布修订后的出口管理条例,将 250nm 及以下制程的掩膜版纳入了限制清单;掩模版承载芯片设计信息和工艺技术,国产替代需求迫切,替代空间大确定性强。2023 年下半年以来,国内掩模版厂商先后公告先进制程掩模版产能规划,推进 130nm-28nm 节点的研发和产能建设,加速核心材料国产替代进程。我们看好相关企业逐步实现技术节点突破,实现国产替代和盈利高增速。-23%-11%0%11%22%33%10/221/234/237/
6、23半导体沪深300Table_CompanyRptType 行业研究行业研究 敬请参阅末页重要声明及评级说明 2/21 证券研究报告 建议关注建议关注 路维光电、清溢光电等 风险提示风险提示 市场竞争加剧风险、重资产经营风险、主要原材料和设备依赖进风险、产品进展不及预期风险。ZYMAyXeV9YmUsOnR6MdNbRtRpPoMtQiNqRqQfQnPtP7NoPpPxNtPpNMYoOrOTable_CompanyRptType 行业研究行业研究 敬请参阅末页重要声明及评级说明 3/21 证券研究报告 正文正文目录目录 1 掩模版为电路图转移模板,技术演进路线明确掩模版为电路图转移模板,