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半导体行业:掩模版光刻蓝本蓄力国产替代国内成长空间广阔-231021(21页).pdf

上传人: 拾亿 编号:143774 2023-10-25 21页 1.49MB

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本文主要分析了光刻蓝本蓄力国产替代,国内成长空间广阔的半导体行业。主要观点包括: 1. 掩模版是微电子制造过程中的图形转移母版,其精度和质量会直接影响下游制品的优品率。 2. 掩模版属于定制化产品,具备一定抗周期属性。不同下游领域的不同客户对于掩模版的尺寸、精度要求均有不同。 3. 半导体和平板显示是掩模版最大的两块下游应用。全球半导体掩模版市场规模约 87 亿美元,平板显示掩模版受益于面板产能转移,市场规模约 61 亿元。 4. 国内市场对于三方掩模版厂商需求较大,国产替代空间广阔。目前国内半导体光掩膜版的国产化率约为 10%,高端光掩膜版国产化率仅为 3%。 5. 本土企业积极布局,均已开始进行针对半导体 130nm 以下制程节点的项目投资,有望逐步实现技术节点突破,实现国产替代和盈利高增速。
光刻蓝本蓄力国产替代,国内成长空间广阔? 半导体和平板显示新技术、新产品带来需求增量? 国内企业蓄力技术突破力争国产替代?
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