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1、 免责声明和披露以及分析师声明是报告的一部分,请务必一起阅读。1 证券研究报告 拓荆科技拓荆科技(688072 CH)薄膜沉积设备龙头进口替代加速薄膜沉积设备龙头进口替代加速 华泰研究华泰研究 首次覆盖首次覆盖 投资评级投资评级(首评首评):):买入买入 目标价目标价(人民币人民币):):339.60 2023 年 2 月 20 日中国内地 半导体半导体 国内薄膜沉积设备龙头企业,未来核心受益于进口替代加速国内薄膜沉积设备龙头企业,未来核心受益于进口替代加速 拓荆科技成立于 2010 年,专注于薄膜沉积领域,是国内唯一一家实现PECVD 和 SACVD 产业化应用的公司,同时在 ALD 领域也
2、处于国内龙头地位。公司目前已进入到中芯国际、长江存储等国内头部制造企业,同时在海外客户拓展上有所突破。薄膜沉积作为半导体制造三大核心工艺之一,目前国产化率不足 10%,未来替代空间较大,公司作为国内头部企业将核心受益。我们预计公司 2022-24 年收入为 16.9/27.4/38.0 亿元,归母净利润为3.8/4.1/7.6 亿元。首次覆盖给予买入评级,目标价 339.6 元,基于 15.7 倍 2023 年 PS。行业:行业:2023 年设备市场进入衰退,远期受益于工艺平台持续演进年设备市场进入衰退,远期受益于工艺平台持续演进 我们预计 2023 年全球半导体重资产企业资本开支将同比倒退
3、8.1%,同时全球半导体前道设备市场规模将同比下降 23%左右。薄膜沉积、光刻、刻蚀是半导体前道三大工艺,我们预计 2022 年薄膜沉积占据半导体前道设备的22%,市场空间达到 220 亿美元,2025 年市场规模有望突破 340 亿美元,2021-25 年 CAGR 达到 11.5%。从设备的工艺类别来看,PECVD 市场规模占全球薄膜沉积设备市场中的 33%,占比位列第一,溅射 PVD 和 ALD 分别以 19%和 11%位列第二、第三,而 SACVD 属于新兴设备类型,占比较小,归于其他薄膜沉积设备类下。产品产品+客户客户+研发三大核心竞争优势巩固龙头地位研发三大核心竞争优势巩固龙头地位
4、 我们认为拓荆科技的核心竞争力主要在于 1)国产薄膜沉积设备龙头,坐拥中芯国际、长江存储等大客户;2)持续拓宽产品与工艺覆盖,扩增潜在市场空间,公司目前最高可适配到 14nm 逻辑芯片、17nm DRAM 以及 128L FLASH 节点;3)研发实力雄厚,募投项目助力工艺突破及设备产能扩张。半导体设备国产替代加速背景下,这些核心竞争力有望帮助拓荆科技实现营收业绩快速增长,进一步收获更大市场份额,巩固其龙头地位。估值:首次覆盖给予“买入”评级,目标价估值:首次覆盖给予“买入”评级,目标价 339.6 元元 受益于进口替代加速以及工艺覆盖度提升,我们预计公司 2022-24 年收入为 16.9/
5、27.4/38.0 亿元,归母净利润为 3.8/4.1/7.6 亿元。以 PS 来看,目前可比公司 2023 年 PS 平均数为 9.9 倍,考虑到公司所处薄膜沉积设备赛道空间广阔及公司稀缺性我们给予一定估值溢价,对应 15.7x 23PS,我们首次覆盖拓荆科技给予“买入”评级,目标价 339.6 元。风险提示:1)管理层美籍人士研发运营活动受影响;2)半导体下行周期对应设备厂新增订单缩减风险;3)中美贸易摩擦升级导致收入不达预期风险;4)薄膜沉积设备行业竞争加剧风险。研究员 黄乐平,黄乐平,PhD SAC No.S0570521050001 SFC No.AUZ066 +(852)3658
6、6000 研究员 丁宁丁宁 SAC No.S0570522120003 +(86)21 2897 2228 研究员 陈旭东陈旭东 SAC No.S0570521070004 SFC No.BPH392 +(86)21 2897 2228 研究员 刘溢刘溢 SAC No.S0570522070002 +(86)21 2897 2228 基本数据基本数据 目标价(人民币)339.60 收盘价(人民币 截至 2 月 17 日)260.20 市值(人民币百万)32,910 6 个月平均日成交额(人民币百万)341.11 52 周价格范围(人民币)89.71-324.00 BVPS(人民币)28.16