机械设备行业：国产ALD设备先锋进口替代正逢其时！-230113（28页）.pdf

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1、 行业行业报告报告|行业深度研究行业深度研究 请务必阅读正文之后的信息披露和免责申明 1 机械设备机械设备 证券证券研究报告研究报告 2023 年年 01 月月 13 日日 投资投资评级评级 行业行业评级评级 强于大市(维持评级)上次评级上次评级 强于大市 作者作者 李鲁靖李鲁靖 分析师 SAC 执业证书编号：S1110519050003 朱晔朱晔 分析师 SAC 执业证书编号：S1110522080001 张钰莹张钰莹 联系人 资料来源：聚源数据 相关报告相关报告 1 机械设备-行业专题研究:光电路径提效+降本之电镀铜：技术主流路线分析、经济效应及规模测算 2023-01-12 2 机械设备

2、-行业研究周报:板块受疫情扰动出现显著调整，新年打响反攻第一枪 2023-01-09 3 机械设备-行业研究周报:板块受疫情扰动出现显著调整，调整后回弹有望接近尾声 2023-01-03 。行业走势图行业走势图 国产国产 ALD 设备先锋，进口替代设备先锋，进口替代正逢其时！正逢其时！1）光伏光伏 ALD 设备领军者，拓展半导体领域应用设备领军者，拓展半导体领域应用 微导纳米深耕薄膜沉积设备领域，以 ALD 技术为核心不断实现技术突破。公司率先将 ALD 应用于光伏领域，产品矩阵包括 ALD 设备与 PECVD 设备，覆盖多家龙头电池片厂商，交付的无锡尚德整线量产效率突破 25%。半导体领域，

3、公司研制出的高 k 栅氧层 ALD 设备已实现销售，取得 28nm 节点中国产 ALD 设备技术突破。公司三年营收增速皆超 30%，ALD 设备凭借技术壁垒实现高毛利，手握 19.75 亿元在手订单，助力业绩稳攀高峰。2）Why ALD：精度之王，迎合高标准趋势：精度之王，迎合高标准趋势 综合比较 PVD/RPD/CVD/ALD 四大技术路径，物理沉积与化学沉积的主要区别在于：化学沉积的致密性与均匀性更优，精细度高，更适合沉积复杂结构；物理沉积适合平面结构，镀要求较低的膜层。ALD 在超薄与复杂结构中体现不可替代性：光伏：光伏：技术路径的选择最终归于平衡降本增效，ALD 在超薄膜层如鱼得水，如

4、 TOPCon 电池中的氧化铝钝化层与隧穿氧化层。半导体：半导体：制程缩小趋势下，ALD 必不可少。在制程进入 28nm 后，器件结构不断缩小且更为立体化，CVD 与 PVD 难以胜任。3）光伏领域：高效电池未来已来，公司设备有望乘风而起）光伏领域：高效电池未来已来，公司设备有望乘风而起 N 型技术转化效率极限高，综合性能优，下游扩产潮打开设备市场增长空间。对公司产品线所在市场进行测算，预计 23 年市场空间可突破百亿元。TOPCon 电池：电池：与 PERC 相比，公司设备价值量在 TOPCon 产线建设的投资比重上升至约 36%。TOPCon 领域国产 ALD 设备企业稀少，公司市占率高达

5、 70%，根据披露的销售合同推算 2022 年新签设备订单 12 亿元。HJT/钙钛矿电池：钙钛矿电池：PECVD 设备在 HJT 产线投资占比高达 50%，ALD 在HJT 和钙钛矿电池领域有望扩展应用。4）半导体领域：国产）半导体领域：国产 ALD 拓荒者，期待拓展多样应用拓荒者，期待拓展多样应用 半导体 ALD 设备国产化率低，公司设备性能比肩国际同类厂商，有望实现国产替代，设备需求或迎来放量，预计 23 年 ALD 设备需求有望突破 10 亿。逻辑芯片：逻辑芯片：高 K 材料 ALD 设备国产破局者，打破国外技术垄断；ALD在 FinFET 亦有应用。存储芯片：存储芯片：新型存储器发展

6、迅猛，公司 ALD 设备已应用于 FeRAM 电容介质层；传统存储器中由 2D 到 3D NAND Flash 堆叠层数增长，拉动ALD 设备需求。风险风险提示提示：市场需求下滑风险；新产品开发风险；产品验证与交付进度不及预期；产品毛利率波动风险；测算存在主观性，仅供参考。-34%-29%-24%-19%-14%-9%-4%1%2022-012022-052022-092023-01机械设备沪深300 行业行业报告报告|行业深度研究行业深度研究 请务必阅读正文之后的信息披露和免责申明 2 内容目录内容目录 1.微导纳米：光伏微导纳米：光伏 ALD 设备领军者，拓展半导体领域应用设备领军者，拓展