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广立微:良率提升工具国产领先自主可控提速发展-221115(28页).pdf

上传人: 小*** 编号:106438 2022-11-16 28页 2.51MB

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本文主要介绍了广立微(301095)在半导体良率提升工具国产化方面的领先地位和发展潜力。广立微成立于2003年,专注于集成电路EDA软件与晶圆级电性测试设备的研发,发展至目前,公司软硬件覆盖了测试芯片设计EDA软件、电性测试设备、测试数据分析软件等芯片良率提升的关键环节,率先打破了海外巨头是德科技和PDF Solution在相关技术领域的垄断。 广立微的WAT设备国内领先,技术能力对标海外龙头,其自主研发的WAT测试设备进入量产,成为国内唯一具有量产能力的供应商,打破了Keysight电性测试领域对全球垄断的局面。从具体参数来看,Keysight的设备国际领先,其电流量程覆盖10pA至1A,电流测试精度达0.1fA,电压测试精度达0.1uV;公司电性测试设备电流量程覆盖100pA至1A略低于Keysight,其余主要参数均已经实现持平。 广立微持续投入软件研发,数据软件存百亿潜在空间。2019年至2021年,公司研发费用率维持在32-40%之间,剔除股份支付费用后复合增长率为60%,主要应用于EDA软件开发及WAT设备研发。截至目前,公司EDA软件包括测试结构设计,外围电路绕线设计及IP电路设计、物理拼接等多个方面。并自主研发的可寻址测试芯片及超高密度测试芯片,提升设计密度及测试效率百倍以上。已经推出泛EDA软件的半导体数据分析产品DataExp,在成品率数据分析方面,可将大量设计DOE信息与电性测试数据结合,通过数据建模快速找到缺陷多发的IC设计版图模式。 投资建议方面,预计公司2022-2024年分别实现收入3.52/6.22/10.64亿元,同比增长78%/77%/71%;实现归母净利润1.0/1.7/2.8亿元,同比增长58%/69%/65%,首次覆盖,给予“买入”评级。
广立微如何实现国产芯片良率提升? 广立微的WAT设备技术如何对标国际龙头? 广立微的软件产品有哪些创新之处?
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