国金证券研报指出，ASML是全球光刻机市场的绝对霸主，2024年占据全球61.2%份额，总销量418台。在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一的供应商，2024年出货44台。Nikon和Canon主要集中在中低端光刻机领域。中国大陆是ASML最大的客户，2024年收入占比高达41%。ASML的垄断地位建立在两次关键跨越之上——浸没式技术的率先突破和EUV的独家量产。本文从市场份额、产品结构、中国市场三方面拆解ASML光刻机格局。

全球光刻机市场呈现明显的寡头垄断格局，ASML、Nikon和Canon三家公司长期占据主导地位。2024年ASML凭借高端技术优势占据全球光刻机市场61.2%的份额，总销量418台。Nikon和Canon主要集中在中低端光刻机领域——Nikon除高端的EUV光刻机外，其他类型均有出货；Canon则主攻低端的i-line和KrF光刻机，在i-line类型光刻机方面销售量较高。ASML的垄断地位在高端领域更为突出：在EUV光刻机领域，ASML是全球唯一量产供应商；在ArFi浸没式光刻机领域，ASML同样占据主导。ASML历经长期发展，把握浸没式机遇后来者居上——在面对如何突破193纳米波长瓶颈时，ASML和台积电率先将193纳米浸润式光刻机生产出来，领先尼康三年，让ASML彻底赢得光刻机绝大部分市场份额。此后2013年ASML推出第一台EUV量产产品，进一步加强行业垄断地位。

表：ASML光刻机销量与均价（2024年）

品类	销量（台）	均价（百万欧元）	销售额占比
EUV光刻机	44	188	38%
ArFi光刻机	129	74	44%
ArF dry/KrF/i-line	245	—	18%

ASML产品结构持续向高端演进。2024年EUV光刻机出货44台，均价1.88亿欧元，价值量占其总销售额的38%；ArFi光刻机销量129台，均价0.74亿欧元，销售额占比约44%，是收入占比最高的出货品类。ASML首次交付新设备EXE（High NA EUV）2台，引领行业走向下一代。High NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）是EUV技术的重大升级，可实现更高的分辨率和更小的工艺节点，单台售价预计超过3亿欧元。ASML延续光刻机迭代路径——通过提升数值孔径来缩短等效波长，在光源波长锁定在13.5nm后，提高数值孔径成为继续缩小工艺节点的关键。ASML的持续创新确保其在高端光刻机领域的垄断地位难以撼动。2024年随产品持续迭代，ASML光刻机均价有所提升。展望未来，ASML在手订单充沛，EUV和High NA EUV的交付将持续拉动其营收增长。

中国大陆是ASML光刻机最大的客户。2023年中国大陆营收占ASML全部营收比为29%，2024年因晶圆厂扩产景气度及超额备货的因素爆发增长至41%，2025年Q1受出口限制等因素影响营收占比下滑至27%。中国光刻机需求量较大，国内晶圆厂仍将继续扩产，国内对于光刻机需求仍然旺盛。ASML2024年光刻机总供应商约5150家，其中Carl Zeiss SMT GmbH是ASML光刻机的透镜、反射镜等关键光学部件的独家供应商，2024年ASML采购蔡司光学部件数额达39.5亿欧元。尽管出口管制造成短期收入波动，但中国大陆作为全球最大半导体设备市场的地位未变，ASML在2025年Q1业绩说明会上仍将中国大陆视为重要战略市场。展望未来，若出口管制有所放松或国产替代取得突破，ASML在中国的业务仍有较大增长空间。