化工行业全球系列报告：受益于制程进步全球光刻胶行业稳定增长中国光刻胶进口替代空间广阔-220819（132页）.pdf

1、化工全球系列报告之十四化工全球系列报告之十四受益于制程进步，全球光刻胶行业稳定增长，中国光刻受益于制程进步，全球光刻胶行业稳定增长，中国光刻胶进口替代空间广阔胶进口替代空间广阔Benefit from the Process Progress,the Global Photoresist Industry is Growing Steadily,and the Import Substitution Space of China Photoresist is Broad本研究报告由海通国际分销，海通国际是由海通国际研究有限公司，海通证券印度私人有限公司，海通国际株式会社和海通国际证券集团其他各

2、成员单位的证券研究团队所组成的全球品牌，海通国际证券集团各成员分别在其许可的司法管辖区内从事证券活动。关于海通国际的分析师证明，重要披露声明和免责声明，请参阅附录。(Pleasesee appendix for English translation of the disclaimer)Equity Asia Research刘威刘威 Wei Liu,孙维容孙维容Sun Weirong, 李智李智 Zhi Li,Andy Guo,Helen Liang,2022年年08月月19日日2For full disclosure of risks,valuation methodologies and

3、 target price formation on all HTI rated stocks,please refer to the latest full report on our website at 概要概要1.光刻胶是图形复刻加工技术中的关键性材料光刻胶是图形复刻加工技术中的关键性材料2.半导体制程进步使得对光刻胶的需求增加3.全球光刻胶市场规模持续稳定增长，各细分市场格局差异较大4.中国光刻胶市场增长快速，高端光刻胶进口替代广阔5.重点公司分析3XVW0V2V2UmOsQ8OcMaQnPqQtRtRkPmMwOeRmOnR9PpPwPuOnRrONZtQqN3For full d

4、isclosure of risks,valuation methodologies and target price formation on all HTI rated stocks,please refer to the latest full report on our website at 投资要点投资要点 光刻胶是图形复刻加工技术中的关键性材料光刻胶是图形复刻加工技术中的关键性材料。光刻胶，也被称为“光致抗蚀剂”，是一种用于光刻的载体介质，它可以利用光化学反应将光信息在光刻系统中经过衍射和过滤后转化为化学能，从而将微细图形从掩模版转移到待处理的基板。光刻胶按照下游用途可分为半导体光

5、刻胶、面板光刻胶以及PCB光刻胶，是半导体加工、面板制造以及PCB生产中必不可少的材料，其中半导体光刻胶拥有最高的技术壁垒，工艺较难突破。目前最尖端的量产半导体光刻胶为EUV光刻胶，而有可能作为下一代的无机光刻胶已处于客户验证阶段。半导体制程进步使得对光刻胶的需求增加半导体制程进步使得对光刻胶的需求增加。随着制程的进步，存储芯片及逻辑芯片的层数均不断增加，随之而来的是每片芯片需要的光刻次数不断增加，进而导致了对光刻胶的需求飞速增加。根据 SEMI 和 WSTS 的数据，单位晶圆面积所消耗的光刻胶金额已经从 2015 年 3 月不到 0.12 美元/平方英寸上升到 2021 年 9 月约 0.1

6、9 美元/平方英寸，而光刻胶市场规模占半导体市场规模的比例也在不断上升。全球光刻胶市场规模持续稳定增长全球光刻胶市场规模持续稳定增长，各细分市场格局差异较大各细分市场格局差异较大。根据Reportlinker的报告，2026 年光刻胶市场总体规模将超过 120 亿美元，其中半导体光刻胶市场规模有望于2025年超过30亿美元。半导体光刻胶、面板光刻胶以及PCB光刻胶市场目前呈现出了不同的市场格局。半导体光刻胶具有最高的技术壁垒，目前国产替代程度较低，日系公司占据了70%以上的市场份额；面板光刻胶技术壁垒次之，目前部分低端光刻胶已实现国产替代；PCB技术壁垒最低，国产占全球的市场份额已在90%以上