1、 电子业深度研究 Z刻机业深度报告 自攻坚k时，产业链迎突破黄金期 2025 年 04 o 11 日 00投资投资要点要点11 Z刻机半导体制Z刻机半导体制心心设备，设备，空间巨大1空间巨大1高高度垄度垄断断2Z刻艺是半导体制最心的艺之一，Z刻机也是术壁垒最高1场空间最大的细V设备大类之一2 据 AMAT 资料，2023 全球 957 亿美元 WFE场中，Z刻机s比 26%1 250 亿美元2而Z刻机场高度垄断，荷q ASML 一家便s据绝大多数场，尤w是在高端品如 EUV1ArFi等领域呈绝领Y，m外日本 Nikon1Canon 也p一定场份额2 Z刻机壁垒高筑，Z刻机壁垒高筑，心指心指标持

2、续迭演标持续迭演2Z刻机芯w的曝Z效果和大规模量时的良率1效率都p着极重要的影响，w首要的心指标是V辨率，摩尔定律，而需要追求波长的缩短Z源 1数值孔径 NA 的高物镜和没式 1k1 因子的降P照明条1计算Z刻等，及催生了多重曝Z术2m外，Z刻机的套刻精度高1能高也是持续迭的重要方向2 心子系统空间观心子系统空间观11供供链稳定集中2链稳定集中2荷q ASML|2024 系统销售成本 104 亿欧元，P游采购空间巨大，w中心子系统作用关键，要包括Z源ASML 子|Cymer 垄断 1曝ZZ学系统照明+物镜，德 Zeiss 心供商 1整机厂商自研 2m外，准系统1境制系统1软等也是Z刻机O或缺的

3、重要组成2 W攻坚l时W攻坚l时，极极关注业链|2关注业链|2在外部易境的O确定性Q，时得益内Q游土壤丰厚及业链自身术突破，Z刻机业链l面临着自攻坚的紧要关头，整机及P游子系统/零部厂商将迎来W突破及的黄金发展期，建关注细V节厂商莱Z学1福晶莱Z学1福晶1福Z股份1菲1福Z股份1菲利_利_等2 00风险风险示示11 局势等宏观因素影响需求复苏1关键术突破O及预期1中美摩擦剧带来全球业链重构2 强强于大于大维持 东东方方富证富证xx研究研究所所 证x分析师李亮 证书编S1160524100007 证x分析师王佩麟 证书编S1160524100001 相相对对指指数表数表现现 相关研究相关研究:美

4、国关税落地，看好自;2025.04.08:多款 AI 大模型陆续发_，极关注 AI 产业链化;2025.04.01:存储涨价周期开启，关注供需格局化;2025.03.31:SEMICON China 2025 大会召开，半体产业迎来新突破;2025.03.31:费电子进入 AI 时代，苹果手机引领产业链创新;2025.03.28-9.85%4.03%17.90%31.77%45.64%59.51%4/116/118/1110/1112/112/114/11电子 沪深300 挖挖掘价掘价值值 投资投资r长r长 业研究/电子/证x研究报告 20172017 敬敬请阅读本请阅读本报告k报告k文后各文

5、后各项声明项声明 2 Table_yemei 电子业深度研究电子业深度研究 ll文目文目录录 1.1.Z刻机晶圆制心Z刻机晶圆制心t脖子节，场空t脖子节，场空间巨间巨大高度垄断大高度垄断.5 2.2.Z刻机壁垒高筑，心Z刻机壁垒高筑，心指标持续迭演指标持续迭演.7 2.1.V辨率Z刻机最心的参数指标，遵循瑞利判据.7 2.1.1.减小Z源波长Z刻机最重要的术演方向.8 2.1.2.升数值孔径 NA Z刻机的重要演方向.9 2.1.3.多并举，降P k1 因子.10 2.1.4.多重曝ZMulti-patterning术.13 2.2.套刻精度Overlay 影响成像效果和良率的重要因素.15

6、2.3.Throughput 直接影响规模量的效率和成本.17 2.4.Z刻机迭的心追求.18 3.3.Z刻机零部场空间Z刻机零部场空间巨大，供链稳定集巨大，供链稳定集中中.19 3.1.Z源定的关键，数演1原理O一.21 3.2.曝ZZ学系统Z刻机的心子系统，Zeiss 心供商.24 3.2.1.曝ZZ学系统之照明模组调整Z照条，影响 k1 因子.24 3.2.2.曝ZZ学系统之物镜影响 NA 的关键，设计复g1要求高.26 3.2.3.曝ZZ学系统格局Z学元心，Zeiss 关键供商.28 3.3.载和移晶圆，极大影响套刻精度和.29 3.4.w他子系统/零部.32 3.4.1.准系统和调焦