非可见光成像技术与应用——中国大恒(集团)有限公司北京图像视觉技术分公司田士聪先生.pdf

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1、非可见光成像技术与应用中国大恒(集团)有限公司北京图像视觉技术分公司大恒图像 产品经理 田士聪非可见光成像-光谱成像对比Signal comes from reflected light on objectSignal comes from object temperature目 录CONTENTS1短波红外2紫外目 录CONTENTS短波红外:什么是SWIRn SWIR(短波红外)范围是指900nm2500nm,短波红外光对人眼来说是看不见的,只能用专用的传感器才能看得见。n 目前探测器主要材料为InGaAs(铟镓砷);InGaAs(铟镓砷)常温工作 体积小量子效率高可扩展到可见光波段大恒S

2、WIR短波红外相机多种分辨率高帧率高量子效率高信噪比Sony InGaAs 传感器:0.3MP IMX991;1.3MP IMX990;3.2MP IMX993;5.3MP IMX992;MARS 系列短波红外:0.3MP 最高262帧;1.3MP 最高134帧TEC制冷比环境温度低 15 C 0.5 C 常温环境;短波红外相机SWIR应用1.水的可视化水具有吸收波长 1450nm 左右的光线的性质,因此含水的部分难以发生反射,成像为黑色。手机拍摄可见光相机拍摄短波红外相机拍摄短波红外相机SWIR应用 液位检测(对比可见光)穿透棕色瓶或颜料瓶(畏光有毒液体检测)短波红外相机SWIR应用2.材料

3、分选即使是可见光图像中看似一样的物质,在 SWIR 图像中,因为反射率不同等原因,会呈现不同的效果。这一性质可用于异物检测等用途;黑豆中混入的塑料片和金属片可见光拍摄短波红外照射下拍摄短波红外相机SWIR应用SWIR波段的光具有穿透硅晶圆和部分树脂容器的性质。这一性质可用于各种制造工序及填充检测等用途;在SWIR环境中拍摄时,可穿透多枚硅晶圆进行观察,因此能实现晶圆的正确堆叠。可用于高精度位置对准或缺陷检测等用途。3.穿透性观察硅晶圆检测短波红外相机SWIR应用 晶硅圆检测 应用背景:在硅穿孔(TSV)过程和微机电系统(MEMS)过程中需要硅晶圆背部对位或硅晶圆检测,光源通常选择1050以上波

4、段(1350)该波段可以透过硅。应用需求:高精度对位检测 应用方案:短波红外相机 远心镜头缺点1.硅材料将入射波长吸收,目标区域完全观察不到Si wafer优点1.合适的波长,能够穿透硅晶圆,目标区域清晰的成像在芯片上Si wafer普通相机图像短波红外图像短波红外相机SWIR应用 太阳能电池板检测 缺陷检测是太阳电池组件生产制备过程中的核心步骤,因硅电池单元一般采用硅棒切割生产,在生产过程中容易受到损伤,产生虚焊、隐裂、断栅等问题,这些问题对电池的转换效率和使用寿命有着严重的影响,严重时将危害组件甚至光伏发电系统的稳定性。EL测试原理:物质在一定的电场作用下被相应的电能所激发而产生的发光现象

5、 短波红外相机SWIR应用4.温度观察大约250以上的物体会发出SWIR波段的光。以亮度的形式捕捉这种热辐射,可用于焊接部等高温部分的温度监控。手机拍摄可见光相机拍摄短波红外相机拍摄监控电烙铁前端温度什么是UVUV波段比可见光(400nm750nm)要短,为10nm400nm。该波段在半导体检测、电路检测,材料分选应用较多;大恒UV紫外相机-水星三代 2.5G接口 高分别率、高速、体积小相机800W分辨率;2.5G数据接口;最高帧率可达36帧相机体积29(W)29(H)50.6(L)mm;高感光度为实现UV拍摄所需的性能,传感器的上部采用了UV透过率较高的石英玻璃,像素的片上镜头也采用了UV透

6、过率较高的材料。响应波段 200-1100nm紫外相机-1.UV高散射性的应用 由于紫外线往往在材料表面被高度吸收,但划痕处会散射入射的紫外线,从而产生较高的对比度,对于划痕非常细或非常浅的情况,可见光无法反射或散射到与紫外线相同的程度,当材料对可见光透明时,尤其明显。典型应用:半导体晶圆表面缺陷检测紫外相机-1.高散射性的应用场景CDCD盒表面划痕盒表面划痕木漆表面划痕木漆表面划痕紫外相机-2.UV透过性差异应用紫外线透过率因材料而异。通过利用这种差异,可以进行更广泛、更多样化的检查。玻璃和塑料中的材料可传输可见

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