1、 敬请参阅报告结尾处的免责声明 东方财智 兴盛之源 行业研究 东兴证券股份有限公司证券研究报告 电子电子行业深度行业深度：筚路蓝缕，如何看待全球筚路蓝缕，如何看待全球光刻胶龙头光刻胶龙头 TOKTOK 的成长之路？的成长之路？海外硬科技龙头复盘研究系列之七海外硬科技龙头复盘研究系列之七 2024 年 7 月 17 日 看好/维持 电子电子 行业行业报告报告 分析师分析师 刘航 电话：021-25102913 邮箱：liuhang- 执业证书编号：S1480522060001 投资摘要：光刻是半导体微纳加工的核心工艺，光刻胶是半导体材料皇冠上的明珠。光刻是半导体微纳加工的核心工艺，光刻胶是半导体

2、材料皇冠上的明珠。光刻胶按照显影效果可分为正性光刻胶和负性光刻胶，正性光刻胶的应用更为广泛。光刻胶的原料包括光引发剂、树脂、溶剂、单体及其他助剂等。光刻胶单体工艺难度大，认证周期长，进入壁垒高。除上游原材料壁垒外，半导体光刻胶国产化还具有配方、设备、客户验证等多重壁垒。光刻胶生产配套设备光刻机成本高，光刻胶的研发具有较高的门槛。下游客户认证要求严格，验证周期长。新研发的光刻胶需要经过PRS（基础工艺考核）、STR（小批量试产）、MSTR（中批量试产）、RELEASE（量产）四个阶段的客户验证，半导体光刻胶的验证周期为 2-3 年。光刻胶市场被东京应化、杜邦、JSR、住友化学等国外巨头所垄断，日

3、企在全球光刻胶市场中占据重要地位。东京应化以 26%的市场份额高居榜首，紧随其后的是杜邦、JSR 和住友化学，其市场份额分别为 17%、16%和10%。东京应化（东京应化（TOK）拥有世界领先的微处理技术和高纯度加工技术，是全球半导体光刻胶龙头。）拥有世界领先的微处理技术和高纯度加工技术，是全球半导体光刻胶龙头。东京应化（TOK）拥有世界领先的微处理技术和高纯度加工技术，是全球半导体光刻胶龙头。TOK 公司自 1968 年首次开发半导体用光刻胶以来，通过进一步扩大研发和完善微纳加工技术，主要产品包括 g/i 线、KrF、ArF、EUV、面板显示和半导体封装光刻胶。东京应化 EUV光刻胶、KrF

4、 光刻胶、g/i 线光刻胶在各自细分领域的市占率均为全球第一，分别为 38.0%，36.6%，22.8%，而 ArF 光刻胶的全球市占率为 16.2%，位列全球第四。东京应化公司以客户为导向，不断发展微纳加工技术和高纯度技术方面的优势，精益化管理，并快速实现全球化布局。TOK 公司把握住了两次历史性的发展机遇，成长为光刻胶行公司把握住了两次历史性的发展机遇，成长为光刻胶行业巨头：业巨头：1995 年东京应化研发出年东京应化研发出 KrF 光刻胶并实现大规模商业光刻胶并实现大规模商业化，随着化，随着 Nikon 和和 Canon 步进式光刻机的崛起，东京应化公司在步进式光刻机的崛起，东京应化公司

5、在 KrF 光刻胶领域光刻胶领域抢占市场抢占市场；伴随着；伴随着 EUV 光刻机的客户交光刻机的客户交付，付，光刻光刻工艺以及工艺以及光掩膜光掩膜检测设备检测设备等等关键设备被日系厂商垄断，关键设备被日系厂商垄断，而光刻胶又需要与这些设备进行适配和验证，而光刻胶又需要与这些设备进行适配和验证，TOK 公司抓公司抓住机遇快速实现住机遇快速实现 know-how，成为，成为 EUV 光刻胶领域龙头。光刻胶领域龙头。光掩模在制造和使用过程中会出现污染物沾污、图形异常等缺陷，需要进行检测和修复。日系设备厂商 Lasertec 是全球首家实现用 EUV 光源检测 EUV 掩膜版的企业，又于 2018 年

6、成功开发了光化图形掩模检测系统 ACTIS A150，加速 EUV 技术的商用。2019 年，Lasertec 推出了对已印有晶圆设计的掩膜版检测设备，形成了垄断地位。TOK 公司凭借着技术优势与精细化服务，抓住机遇快速实现 know-how，成为 EUV 光刻胶领域龙头。半导体行业下游需求旺盛，也给 TOK 公司提供了成长的沃土。通过复盘全球光刻胶龙头通过复盘全球光刻胶龙头 TOK 公司的成长之路，希望对于国内半导体光刻胶行业有一定借鉴作用，我们认为：公司的成长之路，希望对于国内半导体光刻胶行业有一定借鉴作用，我们认为：光刻胶行业迅速发展，TOK 公司图像传感器和 MEMS（微型电子机械系统