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品利基金:第三代半导体SiC、GaN行业投资报告(57页).pdf

上传人: e**** 编号:45456 2021-07-15 57页 5.95MB

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本文主要介绍了氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)这两种第三代半导体材料的特性和应用。 1. 氮化镓(GaN)具有宽禁带、高击穿电压、高频、耐高温、高功率密度等优势,适用于高频大功率器件,如5G通信基站、雷达等。 2. 碳化硅(SiC)的禁带宽度是硅的3倍,导热率是硅的4-5倍,击穿电压是硅的8倍,电子饱和漂移速率为硅的2倍,特别适用于制造高温、高频、抗辐射及高功率的器件。 3. 2017年,全球碳化硅芯片市场规模约为3亿美元,预计到2022年,全球碳化硅芯片市场规模将会突破10亿美元。 4. 碳化硅产业链包括上游的材料(衬底和外延)、中游的器件和模组制造、下游的系统和应用。目前碳化硅产业主要以IDM模式运营,良率和良好的成本控制是核心。 5. 碳化硅和氮化镓在特定领域的性能远远超过目前硅基芯片,但并不能全面替代硅,预计占整个半导体产业的8% - 10%。
氮化镓与硅材料相比有哪些优势? 碳化硅在哪些领域具有应用前景? 我国在第三代半导体材料领域与国际先进水平存在哪些差距?
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