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1、2020 年深度行业分析研究报告内容目录1、 靶材概况41.1 产业链条51.2 制造工艺71.3 产业格局81.4 产业政策92、 半导体用溅射靶材112.1 更小制程,利好铜钽靶材122.2 供应格局:国产靶材定点突破132.3 供应商认证:周期漫长,标准苛刻142.4 市场规模153、 平板显示用靶材153.1 竞争格局:定点突破重点品种163.2 市场空间:LCD 和 OLED 双轮驱动184、 光伏电池用靶材225、 行业投资逻辑255.1 大基金二期加持,加速产业发展255.2 免税政策取消,支撑国产靶材快速成长265.3 国产替代,大势所趋276、 主要上市公司276.1 有研新
2、材276.2 江丰电子286.3 隆华科技296.4 阿石创30图表目录图 1:溅射示意图4图 2:高纯靶材产业链5图 3:溅射靶材应用结构6图 4:靶材生产工艺流程8图 5:靶材市场主要企业份额8图 6:国内靶材企业9图 7:半导体靶材溅射原理图12图 8:半导体用金属靶材12图 9:半导体制造材料成本结构15图 10:半导体用靶材市场规模预测(单位:亿元)15图 11:铜靶、8.5 代线的铝条靶、钼条靶和 5.5 代线用宽幅钼靶16图 12:FPD 技术路线19图 13:全球 FPD 市场结构19图 14:国内 FPD 市场结构19图 15:全球 FPD 需求规模(单位:百万)20图 16
3、:FPD 用靶材国内市场规模21图 17:光伏电池分类22图 18:光伏电池用靶材形成背电极23图 19:HIT 电池成本结构23图 20:HIT 工艺链条23图 21:HIT 电池结构24图 22:光伏电池用靶材市场规模预测24图 23:大基金一期投资领域25图 24:大基金二期股东结构25图 25:靶材进口相关税率26图 26:中国进口货物金额排名27图 27:有研亿金历年净利润(单位:万元)28图 28:江丰电子业绩概况28图 29:四丰电子历年业绩(单位:万元)29图 30:晶联光电生产的 ITO 靶材30图 31:阿石创业绩概况31表 1:三种真空镀膜方式对比5表 2:靶材分类5表
4、3:靶材应用细分情况6表 4:靶材生产工艺对比7表 5:历年来靶材相关行业政策9表 6:半导体用靶材简介13表 7:国内外半导体用靶材供应商简介14表 8:不同材质靶材在平板显示的应用16表 9:平板显示用靶材的国内外供应商17表 10:国内靶材企业下游面板客户18表 11:国内面板厂商产能规划情况20表 12:全球 OLED 产线产能20表 13:靶材行业主要公司概况261、 靶材概况靶材:溅射薄膜制备的源头材料,又称溅射靶材,特别是高纯度溅射靶材应用于 电子元器件制造的物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)工艺,是 制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄
5、膜的关键材料。真空状态下,用加速 的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固 体并沉积在基底表面形成所需要的薄膜,这一过程称为溅射。被轰击的固体是用 溅射法沉积薄膜的源材料,通常称为靶材。 图 1:溅射示意图数据来源:溅射靶材发展 概述,研究所溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标 材料,属于溅射靶材的核心部分。在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表 面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜;由于高纯度金属强度较低, 而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程,机台内部为高电压、高真空 环境,因此,超高纯金属的溅射靶坯需要与
6、背板通过不同的焊接工艺(行业俗称 绑定技术)进行接合,背板起到主要起到固定溅射靶材的作用,且需要具备良好 的导电、导热性能。溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一,综合优势显著。PVD 镀膜目前主要有三种 形式,分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。综合而言,蒸镀薄膜的密度最 差,只能达到理论密度的 95%,镀膜的附着力也最差,但是蒸镀的镀膜速率最快。 离子镀不但密度最高、晶粒最小,而且镀膜与基板的附着力也是三种镀膜中最大 的,只是离子镀膜最大的缺点是基板必需是导电材料,并且镀膜时基板的温度会 升高到摄氏几百度,上述的缺点使离子镀的应用受到很大的限制。目前,溅射是 制备薄膜材料的主要技术之一,用溅射