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1、 敬请参阅报告结尾处的免责声明 东方财智 兴盛之源 行业研究 东兴证券股份有限公司证券研究报告 光刻机光刻机行业：行业：国之重器，路虽远行则将至国之重器，路虽远行则将至 海外硬科技龙头复盘研究系列之九海外硬科技龙头复盘研究系列之九 2024 年 8 月 22 日 看好/维持 电子电子 行业报告行业报告 分析师分析师 刘航 电话：021-25102913 邮箱：liuhang- 执业证书编号：S1480522060001 投资摘要：光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键一环。光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键一环。光刻机是芯片制

2、造流程中的核心设备，其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程、性能，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键步骤，耗时长、成本高。光刻机原理类似相机照相，发出光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后发生性质变化，使图形复印到薄片上，使薄片具电子线路图作用。其中分辨率直接决定制程，是最重要的指标；套刻精度影响良率；生产效率影响产能及经济性。光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有 i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大类。五大类。掩膜光刻机由光源发出光束，经掩膜板在感光材料上成像，又可分为接近、接

3、触式及投影式，投影式为主流，还可分为 UV、DUV、EUV。直写式光刻机用计算机控制光束投影至涂感光材料的基材上，无掩膜进行曝光，又可分为光学直写、带电粒子直写。直写光刻机在半导体应用领域窄，体量小，是掩膜光刻机的补充。市场主流光刻机有 i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV 五大类。光刻机产业链上游所需零件设备众多复杂，下游光刻机产业链上游所需零件设备众多复杂，下游半导体市场半导体市场驱动行业发展驱动行业发展。零件、组件和设备为上游供应。下游市场主要为半导体市场，全球半导体市场规模稳步扩张，使光刻机需求稳步增长。受益于晶圆需求增长、服务器云计算与 5G 基础建设发展，全球光刻机市场规

4、模平稳增长，2023 年全球光刻机市场规模增至 271.3 亿美元，预计 2024 年达 295.7 亿美元。2022年全球光刻机销售结构以中、低端 KrF、i-Iine 为主，占比约 71.5%，高端 ArFi、ArF 和超高端 EUV 占比较小，分别为 15.4%、5.8%和 7.3%。从全球光刻机竞争格局看，光刻机市场由国外企业主导从全球光刻机竞争格局看，光刻机市场由国外企业主导。ASML 占绝对霸主地位，2022 年市场份额占比 82.1%，Canon 占比 10.2%，Nikon 占比 7.7%，上海微电子为国内唯一巨头。超高端光刻机 EUV 领域 ASML 独占鳌头，高端光刻机 A

5、rFi 和ArF 领域也主要由 ASML 占领；Canon 主要集中在 i-Iine 领域；Nikon 除 EUV 外均有涉及。2022 年光刻机国产化率仅 2.5%，上海微电子为国内唯一巨头。复盘海外龙头复盘海外龙头 ASML 成长之路：四十载砥砺前行，成就全球光刻机龙头。成长之路：四十载砥砺前行，成就全球光刻机龙头。1980 年代 ASML 初出茅庐，与知名透镜制造商卡尔蔡司建立合作。1990 年代，ASML 推出 PAS 5500，使 ASML 名声大噪。2000 年代，双工作台、浸没式光刻技术助力 ASML成为行业绝对的龙头。2010 年代，ASML 第一台 EUV 光刻机问世，收购业

6、内一众领先厂商。2020 年代，ASML 将 EUV 光刻机推进至 High NA 时代。ASML 光刻机产品全面丰富，浸入式行业领先，光刻机产品全面丰富，浸入式行业领先，EUV 为其独有。为其独有。ASML 拥有 EUV、DUV 两大光刻系统，DUV 包括浸入式系统、干式系统，EUV 包括 EXE、NXE。ASML 浸入式在生产力、成像和覆盖性能方面处行业领先，适用最先进逻辑和内存芯片的大批量生产。EUV 技术为其独有。得益于 NXE 和 DUV 浸入式系统量价齐升，2023 年 ASML 实现营业收入 275.59亿欧元，净利润 78.39 亿欧元。预测将于 2025 年实现约 300 亿