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2022年半导体设备市场国产替代趋势及拓荆科技盈利能力分析报告(27页).pdf

上传人: 懒人 编号:75301 2022-05-31 27页 2.12MB

1、2022 年深度行业分析研究报告 SUiZnYkZzRzQtR6MdNbRtRrRpNpNfQpPnQeRoOxO6MoPmMuOmMoMxNrQsN 3 目目 录录 一、一、半导体薄膜沉积设备国产先锋,业绩迎来爆发期半导体薄膜沉积设备国产先锋,业绩迎来爆发期 . 6 (一)国内半导体薄膜沉积设备龙头,硬核赛道稀缺标的 . 6 (二)核心人员具备国际化的研发和管理经验 . 8 (三)股权激励提高公司活力,市场化薪酬巩固人才优势 . 10 (四)下游需求持续旺盛,盈利能力快速提升 . 11 二、二、半导体制造核心设备,国产替代大势所趋半导体制造核心设备,国产替代大势所趋 . 14 (一)半导体设

2、备核心赛道,市场规模持续增长 . 14 1、三大核心制造工艺之一,价值占比高 . 14 2、细分品类众多,市场高度垄断 . 16 3、平台型半导体设备,对各式沉积薄膜的理解是重要 know-how . 18 (二)高景气叠加国产替代,行业天花板不断打开 . 19 1、半导体投资热情不减,设备市场持续受益 . 19 2、技术端多重因素驱动,薄膜沉积设备需求持续提升 . 21 3、大陆市场欣欣向荣,国产替代势在必行 . 22 三、三、国产半导体国产半导体 CVD 设备拓荒者,引领供应链自主可控进程设备拓荒者,引领供应链自主可控进程 . 23 (一)自主研发核心工艺,达到国际先进水平 . 23 (二

3、)把握国产替代机遇,快速拓展优质客户 . 25 (三)供应能力逐步提升,进一步提高市占率 . 26 四、四、关键假设、估值与盈利预测关键假设、估值与盈利预测 . 27 五、五、风险提示风险提示 . 28 4 图表目录图表目录 图表 1 公司主要产品情况 . 6 图表 2 2021 年拓荆科技主要业务营收占比 . 7 图表 3 公司部分优质龙头客户 . 8 图表 4 公司发展历程 . 8 图表 5 公司现任管理团队情况 . 9 图表 6 公司股权结构情况 . 10 图表 7 可比公司 2017-2021 年人均薪酬情况 . 11 图表 8 2018-2021 年公司营业收入及增速 . 11 图表

4、 9 2018-2021 年公司归母净利、毛利率/净利率 . 12 图表 10 2018-2021 年公司期间费用率情况 . 12 图表 11 可比公司 2017-2021 年毛利率情况 . 12 图表 12 可比公司 2017-2021 年净利率情况 . 12 图表 13 2018-2021 年公司分产品营业收入(亿元) . 13 图表 14 2018-2021 年公司分产品毛利率情况 . 13 图表 15 公司近一年预收款项/合同负债情况(亿元) . 14 图表 16 公司近一年存货情况(亿元) . 14 图表 17 半导体设备分类 . 14 图表 18 2005-2021 年全球及中国半

5、导体设备销售额(季度,十亿美元) . 15 图表 19 半导体制造三大核心工艺 . 15 图表 20 晶圆制造设备各环节投资比例 . 15 图表 21 半导体薄膜沉积工艺介绍 . 15 图表 22 半导体薄膜沉积设备分类 . 17 图表 23 半导体薄膜沉积设备市场规模(亿美元) . 17 图表 24 半导体 CVD 设备市场规模(亿美元) . 17 图表 25 半导体薄膜沉积设备各细分品类占比情况 . 18 图表 26 半导体薄膜沉积设备各细分赛道竞争格局 . 18 图表 27 公司 PECVD 设备在逻辑芯片中的应用 . 19 图表 28 E-CHUCK 技术结构 . 19 图表 29 全

6、球半导体资本开支情况 . 20 图表 30 全球主要代工厂和 IDM 资本开支情况 . 20 图表 31 不同工艺节点薄膜沉积工序数(道) . 21 图表 32 不同制程逻辑芯片产线薄膜沉积设备需求量 . 21 图表 33 三大核心工艺在 2D 和 3D NAND FLASH 芯片产线资本开支中的占比变化 . 21 5 图表 34 半导体设计/制造/设备环节全球及中国规模 . 22 图表 35 中国大陆需求占比以及本土企业占比情况 . 22 图表 36 长江存储 17-21 年薄膜沉积设备招标情况(台) . 22 图表 37 2021 年国内晶圆厂公开招标分设备国产化率 . 22 图表 38

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本文主要分析了拓荆科技在半导体薄膜沉积设备领域的国产化进程。拓荆科技成立于2010年,主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,主要产品包括等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常态化学气相沉积(SACVD)设备。公司产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。2021年,公司营业收入达到7.58亿元,同比增长120.56%。 半导体薄膜沉积设备是半导体制造的核心设备之一,市场规模持续增长。根据Maximize Market Research数据,2017年至2020年全球半导体薄膜沉积设备市场规模由125亿美元增长至约172亿美元,复合增速约为11.2%。根据Gartner统计的细分种类市场份额数据,CVD约占66%,PVD约占23%,ALD约占11%。 拓荆科技在PECVD、ALD及SACVD设备领域,已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备,关键性能指标达到国际同类水平。公司产品已经广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储等国内主流晶圆厂产线,打破了国际厂商的垄断。2021年,公司PECVD设备实现销售额6.75亿元,同比增长61.49%。 综上所述,拓荆科技作为国内半导体薄膜沉积设备领域的领军企业,在产品研发、市场拓展等方面表现突出,有望在半导体设备国产化进程中发挥重要作用。
半导体薄膜沉积设备国产化进展如何? 拓荆科技在半导体设备行业中的竞争优势是什么? 国产半导体CVD设备的发展前景如何?
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