微导纳米-公司投资价值分析报告：ALD技术平台型企业半导体CVD加持强化成长性-230707（65页）.pdf

1、 敬请参阅最后一页特别声明-1-证券研究报告 2023 年 7 月 7 日 公司研究公司研究 ALDALD 技术平台型企业技术平台型企业，半导体，半导体 CVDCVD 加持强化成长性加持强化成长性 微导纳米（微导纳米（688147.SH688147.SH）投资价值分析报告）投资价值分析报告 增持（首次）增持（首次）公司公司是是 ALDALD 薄膜沉积薄膜沉积领先领先设备厂商设备厂商。依托 ALD 技术核心团队，专注先进微纳米薄膜沉积设备研发与产业化应用，构建以 ALD 技术为核心，外拓 CVD 等多种镀膜设备的产品体系，广泛应用于逻辑、存储、高效光伏电池、新型显示等领域，在半导体逻辑芯片、存储

2、芯片的 HKMG 工艺、光伏正面氧化铝钝化层上具备较强的领先优势。国产国产 ThermalThermal ALDALD 设备佼佼者，差异化竞争策略减少直接竞争对手设备佼佼者，差异化竞争策略减少直接竞争对手。公司是国内首家成功将量产型 TALD 设备应用于 28nm 逻辑芯片 high-k 栅介质层的设备厂，同时加快其他工艺段 TALD 与 PEALD 设备的研发验证，持续巩固竞争优势。公司已有多台 ALD 设备在不同工艺段验证，后续批量重复订单可期。CVD 系列设备以硬掩模工艺为切入点，部分产品目前处于客户试样验证阶段。截至 2023年 4 月 25 日，公司今年新签半导体设备订单 2.42

3、亿元，与 2022 年全年相当。ALDALD 为先进制程关键设备，为先进制程关键设备，未来几年复合增速超其他类型薄膜设备。未来几年复合增速超其他类型薄膜设备。ALD 技术因独特的自限性反应而具有超薄均匀镀膜、台阶覆盖率高、保形性优异的独特优势，在 28nm 以下逻辑芯片三维镀膜、高深宽比存储芯片薄膜沉积中具有无可比拟地位。美国对华出口管制升温，联合日荷对华封锁半导体先进制程设备，釜底抽薪倒逼我国重视供应链安全，下游晶圆厂国产设备验证意愿增强，打开验证窗口，推动半导体设备国产化水平提高，芯片微缩化发展中芯片微缩化发展中 ALDALD 设备是先进制设备是先进制程程核心设备核心设备，利好在关键工艺领

4、先的微导纳米，利好在关键工艺领先的微导纳米。据 SEMI 2021 年报告，CVD、PVD、ALD2020-2025 年市场规模年均复合增长率分别为 8.5%、8.9%和 26.3%。TOPConTOPCon 扩产元年，公司订单大放量，储备新电池设备技术以享受产业加速发扩产元年，公司订单大放量，储备新电池设备技术以享受产业加速发展红利。展红利。公司 ALD 设备为正面 Al2O3钝化层主流制备技术，打破 PECVD 垄断,在同类型产品中市占率全球第一，用于隧穿层与掺杂多晶硅层的 PEALD 二合一设备，SiNx 层的 PECVD 设备市场不断打开，与先导智能协同为客户供应整线。23 年以来 T

5、OPCon 扩产加速，截至 4 月 25 日公司今年新签光伏订单 20 亿元，超 22 年末在手订单。xBC 正面 Al2O3层实现产业化应用，HJT 透明导电层处于开发阶段，钙钛矿封装层已处于验证阶段，有望在下一代光伏电池新技术量产有望在下一代光伏电池新技术量产前前夕夕打入供应链。打入供应链。盈利预测、估值与评级：盈利预测、估值与评级：半导体 ALD 设备壁垒高，差异化布局 CVD 设备拓宽成长空间，国产化背景下加速验证，未来订单放量可期；光伏新技术迭代加速，订单获取能力强，基本盘稳固，可赋能半导体研发与产业化。我们预计公司 23-25E的归母净利润为 1.24/2.63/4.23 亿元，对

6、应 EPS 为 0.27/0.58/0.93 元，当前股价对应 PE 为 196/92/57x。公司半导体 ALD、CVD 处于加速验证与量产导入阶段，可享受一定的估值溢价，首次覆盖，给予“增持”评级。首次覆盖，给予“增持”评级。风险提示：风险提示：新产品验证进度不及预期，行业周期持续下行，国际贸易摩擦加剧新产品验证进度不及预期，行业周期持续下行，国际贸易摩擦加剧。公司盈利预测与估值简表公司盈利预测与估值简表 指标指标 20212021 20222022 2023E2023E 2024E2024E 2025E2025E 营业收入（百万元）428 685 1,508 2,517 3,589 营业