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智慧芽：2023光刻胶技术分析报告（13页）.pdf

编号：123683

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智慧芽：2023光刻胶技术分析报告（13页）.pdf

1、本报告由智慧芽生态市场部制作数据来源：智慧芽研发情报库光刻胶技术分析报告1.主要解决技术问题2.热门技术领域3.技术演进路线4.技术效果布局趋势5.技术效果矩阵6.企业分布7.技术路线图8.技术方案解读9.关于研发情报库目录2主要解决技术问题3光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。光刻胶领域目前主要面临成本高、工艺复杂、影响性能等问题。热门技术领域4技术演进路线5技术效果布局

2、趋势6技术效果矩阵7企业分布8技术路线图9技术方案解读-例1：降低成本10该技术方案介绍了一种涂布方法、光刻胶的技术，应用在照相制版工艺涂层设备等方向，能够解决成本高、增加光刻胶涂布工艺时间时间成本、光刻胶量多等问题，达到填充提高、节省光刻胶涂布量、节省工艺成本的效果。技术方案解读-例2：简化工艺11该技术方案介绍了一种金属图形、剥离工艺的技术，应用在半导体/固态器件制造、图纹面的照相制版工艺、仪器等方向，能够解决成本高、工艺复杂等问题，达到节省成本、降低工艺复杂度、解决光刻胶互溶的效果。技术方案解读-例3：提升性能12该技术方案介绍了一种光刻胶层、待刻蚀的技术，应用在半导体领域，能够解决硅化物尺寸与位置偏差、光刻胶脱落、影响光刻胶等问题，达到防止脱落、提高粘附性、提高亲水性的效果。THANKS谢谢观看

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