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2021年半导体涂胶显影设备龙头芯源微公司成长空间分析报告(14页).pdf

上传人: 木*** 编号:36734 2021-05-14 14页 1.28MB

1、半导体生态圈逐步激发,设备国产替代进程曙光渐亮内外双重推动,半导体行业生态愈加活跃外部干扰激发半导体软件、设备和材料的国产化进程。美国在外交政策上加强与日韩互动以推动半导体供应链等领域合作,试图以“禁令+产业联盟”的手段降低全球半导体产业对中国半导体零部件等供应链的依赖。中国作为瓦森纳协定的非成员国,该协议新增的关于半导体基板制造技术和网络软件出口等的限制项目对中国的半导体产业限制升级,高端光刻机、计算光刻软件、大硅片加工技术等技术管控更加严格,包括进口高端光刻机 EUV、浸润式及 EUV 计算光刻软件、14nm 制程以内的大硅片加工技术等。另外,美国商务部针对华为公司制定的出口管制新规全面限

2、制华为购买采用美国软件和技术生产的半导体产品,对中芯国际的设备禁运也限制了中芯国际的扩大资本开支的计划。在外部环境受到严重干扰的背景下,更加刺激国内半导体设备企业的国产化进程加速。大基金一期进入回收期,二期全面进入投资阶段。国家集成电路大基金一期由财政部、工信部、国开金融、中国烟草、亦庄国投等企业发起,于 2014 年 9 月 24 日正式设立,总规模 1387 亿元,重点投资集成电路芯片制造业,兼顾芯片设计、封装测试、设备和材料等产业,大基金投资的企业包括中微公司、北方华创、沈阳拓荆、晶方科技、三安光电、通富微电、万业企业、雅克科技、长川科技、长电科技等。目前投资计划已经完成,自 2019 年下半年开始进入回收退出期。大基金二期成立于 2019 年 10 月 22 日,注册资本为 2041.5 亿元。据 2019 年国家大基金总裁在半导体集成电路零部件峰会上透露,大基金二期将对在刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清洗设备等领域已布局的企业保持高强度的持续支持,将继续填补光刻机、化学机械研磨设备等核心设备以及关键零部件空白领域的投资布局。2020 年 3 月已投资紫光展锐 4.091%的股权、参与中芯国际科创板 IPO 定增并共同成立中芯京城集成电路制造有限公司,截至 2021 年 5 月已注资 9 家企业,大基金二期将承接一期的职责继续投资国内半导体企业。

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芯源微是一家成立于2002年的国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售。公司主要产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,包括涂胶机、显影机、喷胶机、清洗机、去胶机、湿法刻蚀机等。 芯源微是国内涂胶显影设备龙头,前后道环节成功实现替代,营收稳步上升,2016-2020年公司营业总收入CAGR为22%,2021Q1环比增长了10.14%。公司主营构成主要由光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,其中光刻工序涂胶显影设备占据大头。 半导体设备市场广阔,光刻相关设备占比重,全球半导体设备市场缓慢上升,大陆地区半导体设备需求旺盛。光刻显影设备市场广阔,芯源微在LED芯片制造、集成电路制造后道先进封装环节以及前道晶圆加工环节的光刻工序涂胶显影设备工艺范围覆盖广泛。 芯源微在半导体清洗设备市场也具有竞争力,前道清洗机已被知名厂商认证。全球半导体清洗设备市场将呈逐年增长的趋势,预计2020年全球半导体清洗设备行业有望达到36亿美元。 综上所述,芯源微作为国内半导体涂胶显影设备龙头,在半导体设备市场具有广阔的发展空间和强劲的竞争力。
芯源微在半导体设备市场中的地位如何? 芯源微的涂胶显影设备在哪些领域有应用? 芯源微的湿法设备在全球市场中的竞争情况如何?
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