图9半导体设备销售额(按应用划分) 其刻蚀深度常在几十微米以上,刻蚀步骤非常关键。TSV 结构多次刻蚀与沉积交替进行:需要刻蚀孔 → 衬底隔离 → 金属填充,多个刻蚀步骤嵌套进行。 行业数据 下载Excel 下载图片 原图定位