半色调掩膜版技术（HTM）技术较为复杂，长期为美/日厂商垄断。半色调掩膜版是由遮光层和半色调层叠加所形成，通常第一道光刻工艺为正常的二元遮光层制作，第二道为半色调图形的制作，要求有很高的透过率和膜厚均匀性，且还涉及两层图形之间的套合精度控制问题，需要掩膜版厂商拥有更高的技术工艺。这一技术此前为福尼克斯（美）、SKE（日）等掩膜版厂商垄断，先发优势较强。