按刻蚀材料分各类刻蚀特征 根据作用机理,干法刻蚀主要分为等离子刻蚀,离子溅射刻蚀,反应离子刻蚀三种,运用在不同的工艺步骤中,根据被刻蚀的材料类型,干法刻蚀则可分为金属刻蚀、介质刻蚀与硅刻蚀。其中,介质刻蚀和硅刻蚀市场规模总占比超 90%,两者广泛应用于逻辑、存储器等芯片制造中。 行业数据 下载Excel 下载图片 原图定位