其芒光电深圳展会20250902(1).pdf

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1、高端光学镀膜设备的国产化替代2025 年 9 月 11 日安徽其芒光电科技有限公司Keymang Optronic Science and Technology Co.，LTD.in Anhui安徽其芒光电科技有限公司报告人：顾康鑫1整机解决方案：KMC-190系列2 产品性能3目录 核心部件4 市场应用pKMC-190系列l 尺寸：W1950mmD2000mmH1950mml 装载量：319片（8080含套环）l 极限压力：8.0105Pal 到达压力：2.010-3Pa20minl 漏率测试：1.010-7Pam3/secl 温度分布：15010 25010 l 升温时间：1501030m

2、in 装载量大，精度高，生产性好！1.整机解决方案：KMC-190系列KMC-190T62.产品性能：材料折射率抓取材料KMC190T6折射率550nm镀膜速率（nm/s）NKdSiO21.46901.2TiO22.4418E-50.35MgF21.37600.8n结论：单层SiO2薄膜无吸收，单层TiO2薄膜在440nm波长以上无吸收0.00E+005.00E-041.00E-031.50E-032.00E-032.50E-033.00E-033.50E-034.00E-034.50E-035.00E-03350450550650750850950105011501250k值波长 nm消光系

3、数kSiO2TiO2MgF22.产品性能：材料折射率分布分布=(Max-Min)/(Max+Min)n结论：单材料折射率均匀性小于0.5%2.4202.4402.4602.4802.5002.5202.5401.3201.3401.3601.3801.4001.4201.4401.4601.480123456789101112131415161718测试位置（伞架从上到下）折射率分布550nmSiO2MgF2TiO2NKMC1900T6SiO2TiO2MgF2Max 1.4702.4441.379Min1.4592.4361.371分布0.5%0.2%0.3%3.核心部件：大口径离子源项目参数

4、有效口径250mm技术参数最大功率：3000W加速电压：300V1500V加速电流：300mA2800mA抑制电压：150V500V中和器电流：300mA4000mA性能指标离子密度分布：3.1%外圈最大电流：140A/cm2关键技术参数p 其芒自研大口径、大功率射频离子源，攻克了低温等离子体放电及离子束流的整形与方向控制等课题，已达到国际领先水平0.020.040.060.080.0100.0120.0140.0160.0-800-600-400-2000200400600800离子电流密度(A/cm2)伞架上的距离(mm)KMIB250 离子电流密度分布离子电流密度分布 KMC-170T5

5、2500mA2400mA2300mA2200mA2000mA1800mA1500mA1200mAQIB-250A型离子源伞圈1560mm,Beam V=1500V实测离子电流密度分布均匀性3.1%1500V/2500mA3.核心部件：反射式光学膜厚仪项目参数技术参数 波长范围：3501100nm 光源：卤素灯 监控点位：6080点可选 波长分辨率：0.5nm性能指标 控制精度：截止带偏移不超过1nm 重复精度：连续10炉BPF膜误差 1.5nm关键技术参数p 其芒自研光学膜厚控制仪攻克了微弱信号采集、宽波段光量的适应性、信号处理的非线性算法等核心技术难点。QFTM-R型反射式光学膜厚仪光亮走势

6、计算膜系设计和实测曲线3.核心部件：270度电子枪项目参数技术参数 磁场类型：电磁场 偏转角度：270度 电子束电流：1000mA 高压范围：-4kV-10kV 灯丝电流：50A 扫描范围：20mm性能指标 光斑x宽幅：13.3mm 光斑y宽幅：11.2mm关键技术参数p 其芒自主设计，通过电磁学仿真设计实现高效约束强流电子束，适用于真空镀膜量产工业环境。QEB-270A型电子枪对比项QEB-270AJ社60060偏转类型270度270度ZrO2光斑(200mA/90s/无扫描)光斑x宽幅mm13.314.0光斑y宽幅mm11.215.0入射角度9090