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光刻机行业深度报告(一):核心部件篇曙光已现-250706(67页).pdf

上传人: 颜** 编号:724024 2025-07-07 67页 15.67MB

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根据报告的内容,本文主要概括如下: 1. 光刻机是芯片制造的核心设备,其技术指标包括分辨率、焦深、套刻精度和产率。分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光。 2. 光刻机的核心部件包括光源、照明、物镜、工件台等,其中EUV光刻机具有显著特征,如多层反射膜结构、反射式投影系统等。 3. ASML的成功源自技术变革和产业协作,其供应商遍布全球,与Zeiss、Cymer等公司保持紧密合作。 4. 我国光刻技术与全球先进水平存在差距,但国产替代正在加速,大基金三期将重点扶持光刻机国产供应链。 5. 建议关注光刻机核心部件及加工设备标的,如福光股份、福晶科技、茂莱光学等。
光刻机国产化进展如何? ASML成功的关键是什么? 光刻机核心部件有哪些?
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